Spin Processor勻膠旋涂儀
MYCRO公司提供美國原裝進(jìn)口勻膠旋涂儀，請您放心選購！
MYCRO美國原裝進(jìn)口的旋涂儀，自1985年開始，我們便為提供化工半導(dǎo)體材料清潔涂敷處理等特殊工藝。公司擁有WS系列各類旋轉(zhuǎn)涂敷系統(tǒng)，目前客戶已遍布全球。
勻膠機(jī)有很多種稱謂，英文叫Spin Coater或者Spin Processor，又稱甩膠機(jī)、勻膠臺、旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)/旋轉(zhuǎn)涂層儀、旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)、旋轉(zhuǎn)薄膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂覆儀、旋轉(zhuǎn)涂膜儀、勻膜機(jī) 旋涂儀
自1985 年起，我們向遍布全球的生物化工和半導(dǎo)體材料科研領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)室提供表面涂敷工藝的解決方案，目前，全世界有超過12000套系統(tǒng)正在安全運(yùn)行。
適用旋涂材料的尺寸范圍
WS-650-23 標(biāo)配為10 mm 可選配到3mm或5mm 6英寸（150mm）直徑圓片或5x5英寸（125mm）邊長方片
WS-650-8 標(biāo)配為10 mm 可選配到3mm或5mm8英寸（200mm）直徑圓片或7x7英寸（175mm）邊長方片
WS-650-15 標(biāo)配為10 mm 可選配到3mm或5mm12英寸（300mm）直徑圓片或9x9英寸（225mm）邊長方片
WS-650-X 標(biāo)配為10 mm 可選配到3mm或5mm可根據(jù)用戶特殊要求訂制設(shè)備
可選擇三種不同的安裝構(gòu)造:
的Table Top型可自由放置在實(shí)驗(yàn)臺面上
OND型，帶遠(yuǎn)程控制器可用于手套箱等封閉環(huán)境
IND型，帶遠(yuǎn)程控制器可用于WetStation濕法處理環(huán)境
高性能馬達(dá)驅(qū)動
旋轉(zhuǎn)控制
Mz型高精度旋涂用馬達(dá)
轉(zhuǎn)速范圍:50~12000RPM （注 50RPM是最小穩(wěn)定轉(zhuǎn)速）
加速度:13000RPM/S;
轉(zhuǎn)速誤差:＜±0.5RPM @8000RPM NIST標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)證；
勻膠均勻性:＜1% @6 inch Wafer
主營產(chǎn)品：勻膠機(jī)，旋涂儀，甩膠臺，勻膠臺，涂層機(jī)，涂膠機(jī)，涂膜機(jī),旋轉(zhuǎn)涂敷儀, HPC,PPC, PAC，SCE系列等離子清洗機(jī)， Cargille光學(xué)試劑，光刻機(jī)/曝光機(jī)，壓力機(jī), 壓片機(jī), 熱壓機(jī)，WABASH熱壓機(jī), CARVER熱壓機(jī),LAURELL勻膠機(jī)、HOT PLATE熱板 烤膠機(jī)手套箱專用勻膠機(jī)程控型旋涂儀
Laurell勻膠機(jī) Harrick等離子清洗機(jī) Diener等離子清洗機(jī)
Carver手動壓片機(jī) Uvitron紫外固化箱 Novascan紫外臭氧清洗機(jī)
Wenesco/EMS/Unitemp加熱板 Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng) NXQ光刻機(jī)
AlphaPlasma等離子系統(tǒng) Anatech等離子系統(tǒng)
Wabash/Carver自動壓片機(jī) Nanomaster系統(tǒng)
公司名稱:邁可諾技術(shù)有限公司
公司網(wǎng)址：
http://www.mycro.com
趙生 18221354817 Email: tchiu@mycroinc.com
