商鋪名稱：武漢邁可諾科技有限公司
聯(lián)系人：趙經(jīng)理（先生）
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企業(yè)郵箱：tchiu@mycroinc.com
聯(lián)系地址：武珞路628號亞洲貿(mào)易廣場
郵編：430000
聯(lián)系我時，請說是在焊材網(wǎng)上看到的，謝謝！
| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 邁可諾 | ||
| 發(fā)貨地 | 武漢 | ||
| 產(chǎn)地 | 荷蘭(原裝進口) | ||
| 起訂量 | 1套起批 | ||
| 可售賣地 | 全國 | ||
| 型號 | SMA-600M | ||
概括：
MYCRO原裝進口荷蘭光刻機（光刻機Mask MSMA），是全球的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。客戶如美國航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)等等。
技術(shù)參數(shù)：
光刻機分為半自動和全自動兩大系列。SMA-600M是用于研發(fā)和多產(chǎn)品生產(chǎn)領(lǐng)域的手動掩模對準儀，采用清晰的光學(xué)系統(tǒng)和完全非接觸式校準單元。通過接觸或接近模式可以曝光到Z大φ150mm的晶片。它是曝光工藝中Z適合用于各種電子設(shè)備的系統(tǒng)，例如LD，LED等化合物半導(dǎo)體，以及包括壓力傳感器等在內(nèi)的微型機械的制造工藝。
1、光掩模的尺寸：5英寸Z大；
2、晶片大小：Z高4英寸(無定形)；
3、掩模架滑動：手動卡盤；
4、模板移動：X=±3mm, Y=±3mm；
5、曝光方法：支持接近式曝光，各種接觸式（軟接觸/硬接觸/間隙印刷/真空接觸/低真空接觸）曝光；
6、照明：250W超高壓水銀燈
7、照明不均勻性：±5
8、有效接觸面積：直徑o100毫米
9、分辨率：3mμL/S
10、對齊方法：通過攝像頭查看
11、對齊物鏡：10 x(上/下)
12、總放大倍率：100 x
13、物鏡分離：15?90毫米
14、對準范圍：X,Y=±4毫米
15、對準間隙：99年09年μm
16、對準精度：小于±5毫米
17、主機電源：100-200交流，50/60Hz, 15A (600W)
18、氮氣：0.4?0.5 Mpa
19、真空壓力：小于21.3kPa(大氣壓-80kPa)
三、產(chǎn)品特點：
用于研發(fā)，多產(chǎn)品生產(chǎn)領(lǐng)域
技術(shù)的前沿
采用完全非接觸式校準系統(tǒng)
校準時不會損壞掩模和晶圓
間隙精度的顯著提高
基于“輔助線”的高精度對準是可能的
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客服熱線：4008800298
邁可諾技術(shù)有限公司
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