商鋪名稱：武漢邁可諾科技有限公司
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| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 丹麥NIL | ||
| 是否支持加工定制 | 否 | ||
| 是否進(jìn)口 | 是 | ||
| 電源 | 220V | ||
| 用途范圍 | 桌面納米壓印工具，輕松復(fù)制微米和納米級結(jié)構(gòu) | ||
| 處理基片尺寸 | 最大直徑可達(dá)210mm（8英寸） | ||
| 壓印壓力范圍 | 0.3bar ~ 11 bar | ||
| 熱壓印處理溫度 | 高達(dá)250℃ | ||
| 紫外壓印波長范圍 | 365nm | ||
| 壓模和基材的總高度 | 可達(dá)20mm | ||
| 可售賣地 | 全國 | ||
| 型號 | CNI v3.0-100 | ||
CNI v3.0是一種非常靈活的納米壓印機(jī)。它可提供加熱型納米壓印、UV紫外納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統(tǒng)可根據(jù)特定需求輕松配置，體積小，容易存放，最大可處理210mm（8英寸）圓形的任何尺寸印章和基材。該系統(tǒng)是手動裝卸印章和模板，但所有處理器都是全自動的，專用軟件用戶可以完全控制壓印過程。
特色：
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在過去的五年中，基于石墨烯的氣體傳感器引起了很大的興趣，顯示出了單分子檢測的優(yōu)勢。 最近的研究表明，與未構(gòu)圖的層相比,構(gòu)圖石墨烯可大大提高靈敏度。
通過標(biāo)準(zhǔn)程序生長CVD石墨烯，然后轉(zhuǎn)移到Si/SiO 2模板上進(jìn)行進(jìn)一步處理。 如（Mackenzie，2D Materials，使用物理陰影掩模和激光燒蝕來定義接觸和器件區(qū)域。
使用軟壓印在CNI v2.0中進(jìn)行熱納米壓印光刻，將mr-I7010E壓印抗蝕劑在130℃，6bar壓力下壓印10分鐘，壓力在70℃下釋放。
通過反應(yīng)離子蝕刻將邊緣到邊緣間隔為120-150nm的大面積圖案的孔轉(zhuǎn)移到石墨烯中，并且用丙酮除去殘留的抗蝕劑。
發(fā)現(xiàn)器件具有大約的載流子遷移率發(fā)現(xiàn)器件在加工前具有約2000cm2/Vs的載流子遷移率，之后具有400cm2/Vs的載流子遷移率處理，同時保持整體低摻雜水平。
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