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1. DLC石墨涂層 涂層最主要的優點是什么？
 
簡單的說，涂層降低了成本，提高了效率，由于增加模具的使用壽命，從而降低了成本，減少了停機時間。除此之外，模具能在干燥或潤滑情況下使用，節省了操作及工藝成本。鑒于效率，涂層模具和穩定性能在更高生產率的情況下運行，從而提高了單位時間產量。
 
對于發動機和機械部件，涂層通過降低磨損來降低磨擦和改善品質，在醫療裝置領域中，涂層提供更長的服務時間，可被用來進行顏色編碼，降低工具反射，減小鉆孔工作溫度，以免骨器在高溫下受損。
 
2. 什么樣的零部件和模具形狀能被涂層？
 
CVD 和 ADLC 過程涂固定在涂層室的模具，含有一致，均勻的零件涂層，包括許多內孔，而在 PVD 過程中，模具必須固定，為的是確保在所須表面的涂層均勻分布。在多數情況下，模具在涂層旋轉（從單轉到三倍旋轉），這樣是為了達到均勻的覆蓋面和厚度， PVD 涂層內孔局限于開孔直徑深度。 
 
 
3. 模具和部件是如何進行涂層前準備的？
 
進行涂層前，部件表面以及內孔需要極端的清潔。清潔過程是一個基本的環節，它決定了零件和模具涂層的粘著性和性能。在使用程序的涂層前， Ionbond 對所有部件進行清洗，并支持客戶討論模具的需求，從而確保高品質。 
 
4. 涂層表面的光潔度受什么影響？
 
我們的涂層過程將給零件和模具增加微米級的厚度。涂層一般遵循模具的表面質量，并不是按裝填和整平運行，依據加工過程，零件或許有少量的粗糙現象，在這種情況下，需要極度的光滑表面處理，如果客戶需要的話，需進行后序涂層拋光。
 
 
5. 涂層影響零件形狀和材料的性能嗎？
 
在所有情況下，涂層增加了零件的厚度（等同于涂層厚度），鑒于材料性能，加工溫度決定零件形狀是否受到影響。 CVD 涂層加工溫度一般在 800 ℃ ~1000 ℃。特定材料在 CVD 涂層后將需要重新熱處理。 PVD 涂層的加工溫度一般在 250 ℃ ~600 ℃，大多數零件能保證原由的尺寸公差。在有些情況下， PVD 涂層在溫度低于 70 ℃的情況下，沉積避免損壞有塑料制成的零件。 PACVD 過程在溫度低于 700 ℃情況下進行，因此尺寸精度和性能一般不會受影響。 
 
6. 遮蔽的方法能確保零件的特定部位不被涂層嗎？
 
遮蔽的效果主要取決于工藝，對 PVD 工藝來講，遮蔽相對比較容易，而對 PACVD 相對比較困難，而對 CVD 是十分困難的。 
 
7. 有推薦的或最適宜的基件嗎？
 
沒有，使用適合你的應用領域的合適基件，不適當的基件將不會從涂層中獲益。鑒于何種基件能被涂層，這依賴于涂層過程。 ADLC 涂層能沉積無論是有電導性的還是非電導性的任何材料。 PVD 涂層能被用來沉積幾乎所有的模具鋼、硬質合金和金屬，鎂合金現在還不能通過 PVD 進行涂層，而塑料卻可以，但通常有一個電鍍底層。 CVD 過程適用于涂層硬質合金，大多數模鋼和金屬，需要記住的是，由于涂層溫度高（ 750 ℃ ~1050 ℃），對于某些基件材料需要進行后序熱處理， 
 
8. 需要花多長時間涂層我們的零件？
 
一般的交付時間在 3~5 天，對于我們的優質客戶在 48 小時內甚至更短也是可能的，在試涂情況下，根據部件的具體情況會需要更多時間來準備工藝路線和正確夾具。 
 
9. 涂層能被移除嗎？
 
可以，涂層無需移除即可重涂。
 
10. 工具的本身狀況是否十分重要？
 
重要，涂層能使設計優良的模具更好的工作，但劣質設計和質量較差的模具，通常不能有效的工作。1.真空涂層技術的發展

     真空涂層技術起步時間不長，國際上在上世紀六十年代才出現將CVD（化學氣相沉積）技術應用于硬質合金刀具上。由于該技術需在高溫下進行（工藝溫度高于1000oC），涂層種類單一，局限性很大，起初并未得到推廣。到了上世紀七十年代末，開始出現 PVD（物理氣相沉積）技術，之后在短短的二、三十年間 PVD 涂層技術得到迅猛發展，究其原因：

   （1）其在真空密封的腔體內成膜，幾乎無任何環境污染問題，有利于環保；

   （2）其能得到光亮、華貴的表面，在顏色上，成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色，能夠滿足裝飾性的各種需要；

   （3）可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復合涂層，應用在工裝、模具上面，可以使壽命成倍提高，較好地實現了低成本、高收益的效果；

   （4）此外，PVD涂層技術具有低溫、高能兩個特點，幾乎可以在任何基材上成膜，因此，應用范圍十分廣闊，其發展神速也就不足為奇。

    真空涂層技術發展到了今天還出現了PCVD（物理化學氣相沉積）、MT-CVD（中溫化學氣相沉積）等新技術，各種涂層設備、各種涂層工藝層出不窮。目前較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設備結構簡單，容易操作。多弧鍍的不足之處是，在用傳統的DC電源做低溫涂層條件下，當涂層厚度達到0.3 um時，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個不足之處是，由于金屬是熔后蒸發，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差�？梢�，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優劣，為了盡可能地發揮它們各自的優越性，實現互補，將多弧技術與磁控技術合而為一的涂層機應運而生。在工藝上出現了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法增厚涂層，最后再利用多弧鍍達到最終穩定的表面涂層顏色的新方法。

2.技術原理

    PVD (Physical Vapor Deposition) 即物理氣相沉積，分為：真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍；通常說的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發鍍膜。

真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發，然后沉積在基體表面上，蒸發的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發成氣相，然后沉積在基體表面，歷史上，真空蒸鍍是PVD法中使用最早的技術。

濺射鍍膜基本原理：充氬（Ar）氣的真空條件下，使氬氣進行輝光放電，這時氬（Ar）原子電離成氬離子（Ar），氬離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發生碰撞，使運動方向隨機，沉積的膜易于均勻。

離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術，使鍍料原子部分電離成離子，同時產生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。



一、PVD 技術四個工藝步驟

1. 清洗工件：接通直流電源，氬氣進行輝光放電為氬離子，氬離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；

2. 鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發氣化。

3. 鍍料離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經過碰撞以及高壓電場后，高速沖向工件；

4. 鍍料原子、分子或離子在基體上沉積：工件表面上的蒸發料離子超過濺失離子的數量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

    離子鍍時，蒸發料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動能，高速轟擊工件時，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。

二、產品性能優勢

1.技術特點

   （1）PVD 膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質合金上，對比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進行化學電鍍鉻，然后才適合鍍 PVD，但是水鍍后做 PVD 容易起泡，不良率較高；

   （2）典型的 PVD 涂層加工溫度在250 ℃—450 ℃之間；

   （3）涂層種類和厚度決定工藝時間，一般工藝時間為 3~6 小時；

    （4）PVD 鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為 0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工；

   （5）PVD 技術不僅提高了鍍膜與基體材料的結合強度，涂層成分也由第一代的 TiN 發展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元復合涂層，形成不同的顏色的表面效果。

   （6）目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關參數，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結束后可以用相關的儀器對顏色值進行測量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。

2.技術優點

（1）鍍層附著性能好

    普通真空鍍膜時，在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時，離子高速轟擊工件時，能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現象發生,可見附著多么牢固，膜層均勻，致密。

（2）繞鍍能力強

    離子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規定的航線飛抵其活動半徑范圍內的任何地方。

（3）鍍層質量好

    離子鍍的鍍層組織致密、無針孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復，不致形成金屬瘤。象螺紋一類的零件也能鍍復，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數）、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

（4）清洗過程簡化

    現有鍍膜工藝，多數均要求事先對工件進行嚴格清洗，既復雜又費事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續于整個鍍膜過程。清洗效果極好，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強了附著力，簡化了大量的鍍前清洗工作。

（5）可鍍材料廣泛

    離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉換成熱能，從而促進了表層組織的擴散作用和化學反應。然而，整個工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應用范圍較廣，受到的局限性則較小。通常，各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點材料等均可鍍復。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬，甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。

表帶DLC介紹

很多人應該都聽過PVD表殼，但是對于它的成分或內涵是什么卻不一定清楚。P V D是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，中文的意思是“物理氣相沉積”，其定義是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制作技術。而再細分的話，P V D可分為三大類： 1.真空蒸著(Vacuum Evaporation)。2.濺射法(Sputtering)。3.離子鍍著(Ion Plating)。簡單來說，所謂的PVD可以理解成各家品牌表廠在真空狀態下把一層氮化鈦保護層覆蓋在手表的表面(如果那是一款采用金屬鏈帶的表，則PVD的范圍也會從表殼延伸到表帶上)，由于鈦的密度高且堅硬，因此具有PVD處理鍍層后的手表，除了外觀看起來比純粹的不銹鋼或鈦金屬表殼更閃眼，同時它的保護耐刮效果也會獲得提升。

現代鐘表工藝的應用上，電鍍技術雖然仍在被使用中，但幾乎都是以廉價表款為主流。而且因為電鍍的鍍層對于汗水的抗腐蝕力表現并不好，除了容易脫落或是退色之外，遇到用劣質鍍料的還會造成皮膚炎。所以中高價表款目前很少見到有在用電鍍來處理外殼與鏈帶的。不過電鍍技術有著極嚴重的污染問題存在！在制程中會產生大量的劇毒，管理不慎的話對于環境與工作人員的危害比鎏金還可怕。

革命性的技術—PVD真空鍍膜無論是鎏金或是傳統電鍍， 都免不了會有工件受到污染、或是過程中產生有毒物質污染環境的問題發生;而上述的表面鍍層處理， 基本上也只是將鍍件“ 附著” 在被鍍件上面， 僅有美觀和防銹的作用而已。PVD真空鍍膜技術是一種能夠真正做到微米薄膜且零污染的環保型表面處理方法，它能鍍制成各式薄膜，如金屬膜(Ag、Cu、Al、等)、氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、T iAlN)和碳化物膜(T iC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。


涂層按功能可分為:
1、耐磨損涂層
包括抗粘著磨損、表面疲勞磨損涂層和耐沖蝕涂層。其中有些情況還有抗低溫(<538℃)磨損和抗高溫(538～843℃)磨損涂層之分。
2、耐熱抗氧化涂層
該種涂層包括高溫過程(其中有氧化氣氛、腐蝕性氣體、高于843℃的沖蝕及熱障)和熔融金屬過程(其中有熔融鋅、熔融鋁、熔融鐵和鋼、熔融銅)所應用的涂層。
3、抗大氣和浸漬腐蝕涂層
大氣腐蝕包括工業氣氛、鹽性氣氛、田野氣氛等造成的腐蝕;浸漬腐蝕包括飲用淡水、非飲用淡水、熱淡水、鹽水、化學和食品加工等造成的腐蝕。
4、電導和電阻涂層
該種涂層用于電導、電阻和屏蔽。
5、恢復尺寸涂層
該種涂層用于鐵基(可切削與可磨削的碳鋼和耐蝕鋼)和有色金屬(鎳、鈷、銅、鋁、鈦及他們的合金)制品。
6、機械部件間隙控制涂層
該種涂層可磨。
7、耐化學腐蝕涂層
化學腐蝕包括各種酸、堿、鹽,各種無機物和各種有機化學介質的腐蝕。
上述各涂層功能中,與冶金工業生產有密切關系的是耐磨損涂層、耐熱抗氧化涂層和耐化學腐蝕涂層。

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    本公司真空鍍膜設備采用“磁控濺射和多弧離子”涂層技術，涂層具有高硬度、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、耐摩擦、高光滑低摩檫及附著力強等特點、并且涂層性能穩定可靠，均勻一致。瀾福公司涂層種類有：氮化鈦（TiN）,氮化鉻（CrN）,氮碳化鈦（TiCN），氮化鋁鈦（AlTiN） , 氮化鉻鋁（CrAlN） ,氮化鈦硅（TiSiN）,氮化鈦鋁鉻（TiAlCrN）,類金剛石（DLC）及復合涂層等，瀾福涂層：隨時為廣大客戶提供各類特殊要求涂層。涂層適用于，各類硬質刀具，汽車零部件，五金沖壓，精密模具，沖頭沖棒，鋁壓鑄模具等；從而提升使用性能。