日本advance riko簡易紅外燈加熱裝置SSA系列

紅外金像一種用于熔爐和石英室的簡單設(shè)備。
紅外金像一種低成本的加熱系統(tǒng)，由一個裝有爐子和樣品架的石英室組成。

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使用

• 化合物半導體合金化
• Si，化合物半導體RTA
• 陶瓷基板層壓板的燒成爐
• 玻璃/陶瓷基板退火爐

特征

• 石英室可以選擇氣流型或真空型（標準為氣流型）
• 作為一種選擇，可以將氣流類型和真空類型組合在一起。
• 您可以輕松設(shè)置溫度程序并從計算機輸入外部信號。
• 另外，可以在個人計算機上顯示加熱期間的溫度數(shù)據(jù)。

規(guī)格

*溫度范圍取決于樣品的熱容量和紅外線的反射/吸收。

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日本advance riko臺式燈加熱裝置MILA-5050

此設(shè)備是臺式燈加熱設(shè)備，可進行最大50毫米見方的樣品尺寸的熱處理。
自從MILA-5000系列臺式電燈加熱設(shè)備作為樣品尺寸高達20平方毫米的加熱設(shè)備推出以來，它已被許多客戶使用，為此，我們使加熱處理成為可能。至50 mm的正方形，同時保持集成了加熱爐，爐膛和溫度控制器的緊湊型機身。

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使用

• 硅晶片和復合晶片的高速加熱
• 電子材料的高速加熱，例如光學CVD基板加熱
• 玻璃基板，陶瓷，復合材料等的熱處理
• 熱循環(huán)測試
• 金屬材料的退火
• 涂膜的耐熱性評價
• 加熱和干燥有機材料和樹脂

特征

• 可以進行最大50平方毫米樣品的熱處理
• 最高溫度1200℃
• 能夠高速加熱和冷卻的紅外金色圖像集成了加熱室和溫度控制器的臺式加熱裝置
• 您可以輕松設(shè)置溫度程序并從計算機輸入外部信號。
• 可以在個人計算機上顯示加熱過程中的溫度數(shù)據(jù)。

規(guī)格

*可以選擇真空排氣裝置
*加熱溫度根據(jù)被加熱材料的紅外反射/吸收率，熱容量和材料而異。

電源冷卻水設(shè)備尺寸重量

選項

• SiC涂層碳基座
• 真空排氣系統(tǒng)（RP，DRY，TMP等）
• 氣體流量計（浮子式流量計）
• 冷卻水流量開關(guān)
• 止回閥（泄壓閥）
• 電源線，冷卻水軟管
• 冷卻水循環(huán)裝置
• 手持式點焊機（HS-9000）
• 方便的方舟焊機（HA-1H）

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日本advance riko激光熱膨脹儀LIX-2 series

激光熱膨脹儀LIX-2 series

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特征

• 平行移動樣品架可實現(xiàn)穩(wěn)定的測量
• 超精密測量，讀數(shù)分辨率為1 nm
• 如果使用石英樣品，則可以測量厚度為50至500μm的薄膜或薄板的厚度。

規(guī)格

模型溫度范圍樣品尺寸測量氣氛測量方式