產品描述
UV保護膜的特點
1、切割時高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時晶片不飛散,不殘膠。
2、照射UV反應時間快速,有效提升工作效率。
3、保持晶粒在切割中的完整,(無任何晶粒流失)減少切割中所產生的崩碎。
4、確保晶粒在正常傳送過程中,不會有位移、掉落的情形,水不會滲入晶粒與膠。
帶之間。
5、具有適當的擴張性。
6、可根據客戶需求研發不同制程的UV膜和提供特殊尺寸的產品。
8、卓越的切割性、裝載性。
9、支持低溫的晶圓背面粘貼
加工定制 是 厚度 0.11-0.17(mm) 適用范圍 如晶圓切割,玻璃切割,PLC芯片切割
用途 如晶圓切割,玻璃切割,PLC芯片切割
產品描述
UV保護膜的特點
1、切割時高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時晶片不飛散,不殘膠。
2、照射UV反應時間快速,有效提升工作效率。
3、保持晶粒在切割中的完整,(無任何晶粒流失)減少切割中所產生的崩碎。
4、確保晶粒在正常傳送過程中,不會有位移、掉落的情形,水不會滲入晶粒與膠。
帶之間。
5、具有適當的擴張性。
6、可根據客戶需求研發不同制程的UV膜和提供特殊尺寸的產品。
8、卓越的切割性、裝載性。
9、支持低溫的晶圓背面粘貼
運輸、儲存過程中的注意事項
1、避光。可見光也能使膠水緩慢固化,因此不可以長時間暴露在空氣中。
2、防潮。吸潮后膠水性能會有所下降,因此不可以長時間打開瓶蓋。
3、常溫。當溫度高于80度時,可能引發化學反應,因而膠水不宜長時間放于高
溫的地方。
4、保持潔凈。在膠帶粘貼前請先將被粘體表面的油污,塵埃,水分等擦凈。
5、忌手碰膠面。使用時請勿用手直接觸摸膠帶的膠面。
6、忌二次使用。貼錯位置時,請使用全新膠帶,避免膠帶再度使用。
備注:產品可以根據客戶特殊需要,進行各種厚度和粘性以及防靜電處理,可模切加工。詳細技術參數可以向客服人員索取。
運輸、儲存過程中的注意事項
1、避光。可見光也能使膠水緩慢固化,因此不可以長時間暴露在空氣中。
2、防潮。吸潮后膠水性能會有所下降,因此不可以長時間打開瓶蓋。
3、常溫。當溫度高于80度時,可能引發化學反應,因而膠水不宜長時間放于高
溫的地方。
UV膜(UV tape)是專為晶片研磨、切割及軟性電子零件之承載加工之用而設計。涂布特殊粘膠,具高粘著力,切割時能以超強的粘著力確實粘住晶片即使是小晶片也不會發生位移或剝除使晶片于研磨、切割過程不脫落、不飛散而能確實的切割。加工結束后,只要照射適量的紫外線就能瞬間的降低粘著力,即使是大晶片也可以用輕松正確的撿拾而不殘膠脫膠受污染,提高撿晶時的撿拾性,沒有黏著劑沾染所造成的污染,更不會因為照射紫外線而對IC造成不好的影響。
產品特點:
*切割時高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時晶片不飛散,不殘膠.
*照射UV反應時間快速,有效提升工作效率。
注意事項
一)在膠帶粘貼前請先將被粘體表面的油污,塵埃,水分等擦凈。
二)在太陽光照射下膠帶的粘著力在短時間內會下降,所以膠帶保管時,一定要放在遮光袋內,放置于陰涼之處。
三)膠帶在使用時,請將環境溫度控制在10℃至30℃。在此溫度環境外使用時,會造成接合不良。
四)使用時請勿用手直接觸摸膠帶的膠面。
五)貼錯位置時,請使用全新膠帶,避免膠帶再度使用。
更多歡迎您的聯絡,咨詢了解。
4、保持潔凈。在膠帶粘貼前請先將被粘體表面的油污,塵埃,水分等擦凈。
5、忌手碰膠面。使用時請勿用手直接觸摸膠帶的膠面。
6、忌二次使用。貼錯位置時,請使用全新膠帶,避免膠帶再度使用。產品信息
名稱:晶圓切割UV保護膜 可裁切保護膜
品牌:邦凱
貨號:多款
顏色: 乳白色
產品特點
●本產品應用在集成電路封裝工藝的硅片切割及后續運輸工序
●保持晶粒在切割中的完整,(無任何晶粒流失)減少切割中所產生的崩碎
●確保晶粒在正常傳送過程中,不會有位移、掉落的情形,水不會滲入晶粒與膠帶之間
●不會有殘膠的現象
●具有適當的擴張性
?產品信息
?名稱:wafer晶圓切割膠帶、UV膠帶、Dicing Tape
品牌:日本獅力昂 SILONTEC
?基材:PO
?貨號:6360
?顏色: 乳白色
?產品特點
?
●本產品應用在集成電路封裝工藝的硅片切割及后續運輸工序
●保持晶粒在切割中的完整,(無任何晶粒流失)減少切割中所產生的崩碎
●確保晶粒在正常傳送過程中,不會有位移、掉落的情形,水不會滲入晶粒與膠帶之間
●不會有殘膠的現象
●具有適當的擴張性
代理日本SLIONTEC獅力昂UV膜6360系列:
2, For Substrate:
No.6360-15 T:160um PO:150um Adhesive:10um Standard
現貨規格:280mm*100m
備注:產品可以根據客戶特殊需要,進行各種厚度和粘性以及防靜電處理,可模切加工。詳細技術參數可以向客服人員索取。