.jpg "鑫有研光刻機（lithography）掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統")
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| 產品參數 | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 鑫有研 | ||
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光刻機（lithography）又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
曝光系統最核心的部件之一是紫外光源。
常見光源分為:
可見光：g線：436nm
紫外光（UV），i線：365nm
深紫外光（DUV）,KrF 準分子激光：248 nm, ArF 準分子激光：193 nm
極紫外光（EUV），10 ~ 15 nm
