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CMP化學拋光過程用PFA容量瓶低本底蝕刻液剝離液定容瓶
CMP化學拋光過程用PFA容量瓶低本底蝕刻液剝離液定容瓶
產品價格:¥760(人民幣)
  • 規格:50ml
  • 發貨地:江蘇南京市
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    商品詳情

      隨著全球半導體產業規模的增長,CMP拋光液市場規模進一步擴大,化學機械拋光(CMP)是晶圓制造的關鍵步驟,其作用在于減少晶圓表面的不平整,而拋光液墊是CMP技術的關鍵耗材,價值量較高,占CMP耗材49%價值量,其品質直接影響著拋光效果,因而對提高晶圓制造質量至關重要。PFA容量瓶半透明透明可視度高,本底值低耐受強酸堿,未添加回料具有低的本底,金屬元素鉛、鈾含量小于0.01ppb,無溶出與析出,是目前潔凈的實驗分析器皿,常用于半導體、多晶硅、光伏電子 鋰電等行業,在CMP中用來配置清洗液


      特性:

      1.外觀半透明;

      2.耐溫性:-200~+260℃;

      3、耐絕緣:介電性能與溫度、頻率無關;

      4、防污染:金屬元素值低;

      5、具有低的溶出和析出特性,是儲存標準物質和不同試劑的器皿;

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