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鈣鈦礦掩膜版PVD掩膜板金屬遮光罩金屬mask精密加工來圖定制
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產品價格:¥100.00(人民幣)
  • 規格:完善
  • 發貨地:北京北京
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    商鋪名稱:北京華諾激光有限公司

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    商品詳情
      產品參數
      產品特性加工精度高
      加工類型定制加工
      工件材質不銹鋼、鋁、銅、鉬、鎳等
      加工產品范圍金屬MASK、金屬遮罩
      打樣周期1-3天
      加工周期4-7天
      年最大加工能力999999
      年剩余加工能力888888
      產品材質不銹鋼、銅、鋁、鎳、鉬等
      加工精度±20μm
      加工厚度0.1-2.5mm
      應用范圍鍍膜、光刻、科研等
      加工地址北京、天津
      服務范圍全國
      加工優勢邊緣光滑無毛刺
      型號CN230211930






      華諾激光專業定做掩膜版 ?mask 金屬掩模板 不銹鋼掩膜版 ,主要適合于高校、科研所、高科技公司的實驗室使用,也適合于工廠批量生產,掩模板可以應用于電子束蒸發,熱蒸發,磁控濺射等真空鍍膜設備中,用來制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池,光電探測器,場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產品,具體價格需要發圖紙確認后,才能正式報價。

      光刻掩膜版(又稱光罩,英文為Mask Reticle),簡稱掩膜版,是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構,再通過曝光過程將圖形信息轉移到產品基片上。

      不銹鋼掩模板是以不銹鋼材料為基板生產的掩模板,此掩模板的特是平整度好、精度高、金屬硬度高可以反復使用,適用于蒸鍍線路、電極、芯片層等。受高校研發部門、科研所喜愛。

      芯片掩模板用于芯片線路蒸鍍使用,優質的材料再結合本公司多年生產經驗,制造的掩模板平整度高、精度高,利于掩模圖像的轉移,適合芯片生產廠家和高校實驗室。

      掩膜版的功能類似于傳統照相機的底片。制造商通常根據客戶所需要的圖形,用光刻機在原材料上光刻出 相應的圖形,將不需要的金屬層和膠層洗去,即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細光掩膜圖形的感光空白板。通過光刻制版工藝,將微米級和納米級的精細圖案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要體現為利用已設計好的圖案,通過透光與非透光方式進行圖像(電路圖形)復制,從而實現批量生產。


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