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   1.利用層流原理，提高了沉淀池的處理能力；

   2.縮短了顆粒沉降距離，從而縮短了沉淀時間；

   3.增加了沉淀池的沉淀面積，從而提高了處理效率。

  這種類型的沉淀池比一般沉淀池的處理能力高出7-10倍，是一種新型的沉淀設備。并已定型用于生產實踐。優點：去除率高，停留時間短，占地面積小。

TEM基橫模輸出，M2接近1，光束發散角為.24mrad；脈沖重復頻率高，輸出功率穩定，單脈沖能量波動小于1％，從而可實現高速激光標刻，還可控制光斑的大小，深度，形狀；率，插頭效率高達2％，電光轉換效率可達7％；環境適應能力強，可在高震動，高濕度的環境下連續正常工作。無水冷裝置，體積小，效率高，可靠性高，長時間免維修，節約使用成本。b是激光二級光驅動電源。c光纖激光器控制器，用于控制光纖激光器的工作狀態，同時，打標機的控制微機通過它控制激光輸出。