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一、廢氣處理的方式：
1、掩蔽法。掩蔽法適用于短時間、暫時地低濃度惡臭氣體影響的場合。這個方法可以快速凈化惡臭，靈活性大，費用低，但是惡臭成分并沒有被除去。
2、催化燃燒氧化法。催化燃燒氧化法是催化燃燒處理方法和催化氧化處理方法的綜合，這種廢氣處理方法主要特點在于，在實際的處理過程中，對預熱的溫度要求不高，有機廢氣在進行精華的過程中處于無焰燃燒的狀態，從而能夠有效地提升廢氣治理的安全性，降低廢氣治理的成本。
3、吸附法。吸附法是利用吸附劑的吸附功能使廢氣轉移至固相。適用于處理低濃度，高凈化要求的惡臭氣體。凈化效率高，可以處理多組分的廢氣。
2、助燃氣體的處理：（1）將黏著在容器閥門上或使用器具上的粉末、石油類、油脂類及可燃性物質，底清除干凈后，方可進行助燃氣的處理。（2）嚴禁助燃氣體和可燃氣體在同一地方其附進行處理，以防事故的發生。（3）在處理助燃氣體的周圍，應無火源、無燃燒物和易爆物品�！ �4、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中的分子鍵，破壞的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，達到脫臭及殺滅的目的二、UV光解廢氣處理設備優勢1.UV光氧催化設備臭：TiO2光解催化氧化設備能去除?。
在轉輪濃縮+蓄熱式焚燒裝置中，使各種疏水性分子大量的浸滲到沸石中，再經過高溫燃燒，生成的物質可以發揮非常高的VOC的吸附性。另外，根據工程的結果，作為具有非常高安全性的產品的客戶的青睞。選定、混合使用廢氣所含的很適合VOC分子，能夠大大VOC凈化、濃縮的效率�！ 【蛠頌榇蠹液唵谓榻B一下。從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發產生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等�！ 〉入x子體催化劑選用TiO2，其為寬禁帶(Eg=3.2eV)半導體化合物，只有波長較短的太陽光才能被吸收，激發其活性，所以設計反應裝置的時候需要添加紫外光源。呈游離狀態的污染物離子極易與O3產生氧化反應，生成簡單、低害或無害的物質，如CO2、H2O等，以達到廢氣凈化處理的目的。
聚氨酯、聚苯泡沫板也有吸附性，但很小所以可以忽略。所以在吸附凈化上利用的還都是活性炭吸附設備，活性炭由于其獨特的微孔結構和的吸附能力，被廣泛地應用于食品、、化工、冶金、、農業及環境保護等諸多方面�！ ∫弧a品介紹工廠車間從事生產作業時會產生性等有害氣體之污染物，對大自然生態與廠區環境都會造成空氣污染之危害，該設備將所排放的廢氣加以收集后，利用活性炭吸附塔將廢氣處理至符合空氣污染物排放標準后再排放至大氣中，以免造成環境與人員之危害�！ U氣處理設備廠家實施是環保中很關鍵的，因此這種設備十分的重要，那在使用的時候需要注意哪些問題呢那么隨著經濟的發展，引進了生產的同時，也引進了大批的高科技的生產設備。其較高的成本，也更多的企業更加注重設備的養護�！ 」饣瘜W反應的實質是利用光場輻照，污染物質吸收光子的能量發生躍遷，使其處于極不的激發態，然后再與催化產生的活性基團反應，生成無害物質的過程。光化學能大大促進低溫等離子的反應效果與速率，同時，低溫等離子中電磁場中的活性離子和自由基也能促進光化學反應的快速、有效的進行，二者相互促進，相輔相成。
