半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
二、工藝流程
1、一級反滲透+混床（出水2---15mΩ.cm）
原水箱→原水泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→保安過濾器→高壓泵→反滲透主機(jī)→純水箱→純水泵→陰陽離子交換混床→微孔過濾器→儲水罐→純水輸送泵→用水點
2、一級反滲透+EDI系統(tǒng)（出水5---15mΩ.cm）
原水箱→原水泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→保安過濾器→高壓泵→反滲透主機(jī)→純水箱→EDI系統(tǒng)→儲水罐→純水輸送泵→用水點
3、二級反滲透+EDI系統(tǒng)（出水18mΩ.cm）
原水箱→原水泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→保安過濾器→一級高壓泵→一級反滲透主機(jī)→PH調(diào)節(jié)→二級級高壓泵→二級反滲透→純水箱→脫氣裝置→微孔過濾器→EDI系統(tǒng)→拋光混床系統(tǒng)→儲水罐→純水輸送泵→用水點
三、出水標(biāo)準(zhǔn)
符合美國ASTM標(biāo)準(zhǔn)、符合《中國電子行業(yè)超純水國家標(biāo)準(zhǔn)》GB/T1146.1-1997
（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）
四、訂貨須知
具體的設(shè)備處理量、出水標(biāo)準(zhǔn)、設(shè)備材質(zhì)、尺寸及電器控制等，我公司將會提供給您詳細(xì)的方案說明。
