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cvd PECVD 氣相沉積爐
cvd PECVD 氣相沉積爐
產(chǎn)品價格:¥面議(人民幣)
  • 規(guī)格:
  • 發(fā)貨地:北京
  • 品牌:
  • 最小起訂量:1臺
  • 誠信商家
    會員級別:金牌會員
    認證類型:未認證
    企業(yè)證件:未通過
    認證信息:未認證

    商鋪名稱:西尼特(北京)電爐有限公司

    聯(lián)系人:龐通(先生)

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    企業(yè)郵箱:cntdl@sina.com

    聯(lián)系地址:北京市朝陽區(qū)五里橋二街1號院

    郵編:100000

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    商品詳情
      ※產(chǎn)品描述:
      CNT公司PECVD設(shè)備主要由全真空專用不銹鋼腔體,分子泵高真空系統(tǒng),電源,生長機體載體及溫控系統(tǒng),獨立排氣和生長壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng),冷卻循環(huán)水輔助設(shè)備等組成。整機結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、抽真空速度快。此設(shè)備控制系統(tǒng)采用邏輯按鈕手動控制與工控機自控控制可選。實現(xiàn)真空抽氣和鍍膜工藝一體化功能。此設(shè)備可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介電、半導(dǎo)體及金屬膜等。
       
       
       
       
       
       
       
      ※技術(shù)指標(biāo):
       
       參 數(shù) 名 稱
      單   位
      配置
      沉積類型
       
      二氧化硅,氮化硅,類金剛石等
      電   源
       
      射頻電源,帶正向功率和反射功率計指示,帶匹配器
      加熱系統(tǒng)
       
      平板式雙反應(yīng)室系統(tǒng),帶加溫和勻氣系統(tǒng)
      工 作 溫 度
      100~600℃
      基片臺尺寸
      (φ×H)mm
      1英寸、二英寸、三英寸、四英寸
      基片臺轉(zhuǎn)速
       
      轉(zhuǎn)速0-20RPM
      控 溫 精 度
      ±1
      極限真空
      pa
      8.0×10-5
      密封系統(tǒng)
       
      磁流體密封
      水冷、氣路系統(tǒng)
       
      冷卻水循環(huán)機、無噪聲氣泵
      報警及保護
       
      對缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警及相應(yīng)保護措施
      真空系統(tǒng) 
      (選 配)
      真空系列
      單級機械泵、擴散泵機組、分子泵
      工作腔體
      不銹鋼
      氣氛系統(tǒng)
      浮子流量計、進口、國產(chǎn)質(zhì)量流量計
      記錄裝置
      進口、國產(chǎn)無紙記錄儀
      備注:西尼特可根據(jù)閣下要求提供各種非標(biāo)產(chǎn)品的設(shè)計制造,歡迎來函、來電咨詢!   
            24小時熱線:400-668-6260   18610138965    Fax:010-51418223
        cntdl@sina.com                     http://www.cimitdl.com
    在線詢盤/留言
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