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| 產品參數 | |||
|---|---|---|---|
| 二手新柯隆磁控濺射鍍膜機RAS-1100C/多層反射膜靶材真空電鍍機轉讓 產品特性 | 磁控電鍍機 | ||
| 新舊程度 | 9成新 | ||
| 設備所在地 | 東莞 | ||
| 設備生產產地 | 日本 | ||
| 產品數量 | 3 | ||
| 可售賣地 | 全國 | ||
| 型號 | RAS-1100C | ||
二手新科隆濺射鍍膜機RAS-1100C是一款受到市場認可的鍍膜設備。它基于真空蒸鍍原理工作，能在真空中將膜料加熱蒸發，并在基片表面凝結形成薄膜，具有高精度、高穩定性和高重復性等優點，適合科研機構、大學、企業進行材料科學研究、器件制造及表面處理等工作。成色如圖，功能完好無維修。適合各種鍍膜需求，穩定可靠。提供詳細設備參數和運行說明，有任何問題歡迎咨詢。支持上門看貨或視頻看貨，外地協商發貨方式。有專業技術團隊上門安裝調試培訓教工藝等服務，快進快出銷售，價格全市場做到優勢，誠心要的老板私聊技術楊經理181-030-45976#專業真空電鍍機#磁控濺射電鍍機#蒸發電鍍機#多弧電鍍機
一、磁控濺射鍍膜工藝流程：
1. 準備工作：
在進行磁控濺射鍍膜之前，首先需要進行準備工作。包括清洗基材、安裝目標材料、安裝濺射靶材料、設置真空系統、調試設備等。確保工藝設備的正常運行和有效的材料供應。
2. 抽真空：
啟動真空設備，將鍍膜室內的氣體抽取出來，以創建一定的真空環境。通常需要將氣體抽取至達到良好的真空度，以避免氧氣等雜質對鍍膜過程的影響。
3. 加載基材：
將待鍍膜的基材放置于鍍膜室中，通常在基材表面經過預處理，如清洗去除表面的污垢，以提供一個良好的鍍膜基礎。? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 4. 靶材預處理：
靶材是用來提供鍍膜材料的源頭，通常需要經過靶材的清洗、拋光等預處理工序，確保靶材表面干凈、光滑，并增加靶材的壽命和鍍膜質量。
5. 設置基材和靶材的相對位置：
在鍍膜室中設置基材和靶材之間的相對位置。一般采用夾具或旋轉臺等裝置來控制基材和靶材的距離和角度，以實現均勻的鍍膜效果。
6. 開始濺射鍍膜：
通過施加一定的電壓和電流，激活靶材，使其表面的材料被離子化。離子化的材料會在真空環境中以高速運動，并沉積在基材的表面上，形成薄膜層。同時，通過磁場作用，將離子束引導到基材表面，以增加鍍膜的均勻性。? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?7. 控制鍍膜參數：
在鍍膜過程中，需要控制多個參數，包括濺射功率、工作氣體流量、濺射時間等。這些參數的調節可以影響薄膜的成分、結構和性能。通過對這些參數的優化，可以得到所需的薄膜材料。
8. 結束鍍膜：
鍍膜過程達到預定的條件后，停止供應靶材的電源和氣體，完成鍍膜過程。
9. 卸載基材：
將已經完成鍍膜的基材從鍍膜室中取出，并進行必要的后處理，如清洗、檢測等。
二、磁控濺射鍍膜工藝原理：
磁控濺射鍍膜工藝利用電弧的熱能將靶材表面的原子或分子離子化，并沉積在基材表面上，形成薄膜層。具體的工藝原理如下：
1. 靶材激活：
通過外加電壓和電流，激活靶材，使靶材表面的原子或分子離子化。通常采用直流或射頻電源提供電能，激活靶材并維持離子束的穩定。
2. 離子束引導：
在鍍膜室中施加一定的磁場，通過洛倫茲力將離子束引導到基材表面。磁場的作用可以控制離子束的運動軌跡，增加鍍膜的均勻性。
3. 碰撞與沉積：
離子束以高速運動，在基材表面碰撞并沉積。碰撞過程中，離子的能量會釋放出來，提供熱能進而使基材表面的材料溶解并沉積。? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?4. 形成薄膜：
通過重復碰撞和沉積的過程，逐漸在基材表面形成一個尺寸薄的薄膜層。這一過程可以控制鍍膜的厚度、成分和結構。
總結起來，磁控濺射鍍膜工藝流程包括準備工作、抽真空、加載基材、靶材預處理、設定相對位置、濺射鍍膜、控制鍍膜參數、結束鍍膜和卸載基材等步驟。工藝原理是利用電弧將靶材的材料離子化，并通過磁場引導離子束到達基材表面，形成薄膜層。這種工藝可以制備出具有高硬度、耐磨損、耐腐蝕性能的薄膜材料，廣泛應用于表面處理和功能材料制備領域。
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