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| 產品參數 | |||
|---|---|---|---|
| 二手新柯隆磁控濺射1100C電鍍機/金屬件電鍍機/半導體電鍍機轉讓 產品特性 | 磁控濺射機 | ||
| 新舊程度 | 8成新 | ||
| 設備所在地 | 東莞茶山 | ||
| 設備生產產地 | 日本 | ||
| 產品數量 | 3 | ||
| 可售賣地 | 全國 | ||
| 型號 | 1100C | ||
二手SHINCRON新柯隆ras-1100C/CZ濺射鍍膜離子束濺射鍍膜機/半導體鍍膜/1300MM真空電鍍機轉讓包安裝調試培訓教工藝服務
銷售技術楊經理：18103045976
一、概述
新科隆 RAS濺射沉積系統是一款高性能、高穩定性的濺射沉積設備，適用于薄膜材料的制備。該系統采用先進的濺射技術，可以實現多種材料的高質量沉積，廣泛應用于半導體、光學、磁學等領域。本說明書將詳細介紹新科隆RAS濺射沉積系統的組成、工作原理、操作方法以及注意事項。
二、系統組成
1.濺射源:包括靶材、離子源、加速器等，用于產生高能離子束。
2.真空系統:包括泵、真空室、管道等，用于維持濺射室內的低真空環境。
3.沉積室:包括基板架、樣品室、進樣機構等，用于放置樣品和進行濺射沉積。
4.控制系統:包括計算機、觸摸屏、PLC等，用于控制整個系統的運行。
5.輔助設備:包括電源、加熱器、冷卻器等，用于提供濺射過程中所需的輔助條件。
三、工作原理
1.濺射源產生高能離子束，通過加速器加速后，射向靶材表面。
2.離子束撞擊靶材，使靶材表面發生濺射，靶材表面的原子或分子被濺射出來。
3.濺射出的原子或分子在真空室內飛行，并沉積在基板上，形成薄膜。
4.通過控制系統調整濺射參數，可以控制薄膜的厚度、成分和結構。
四、操作方法
1.啟動真空系統，將濺射室抽至所需真空度。
2.將靶材安裝在濺射源上，確保靶材表面與濺射源距離適中。
3.將基板放置在基板架上，確保基板與濺射源距離適中。
4.啟動控制系統，設置濺射參數，包括功率、時間、溫度等。
5.啟動濺射源，開始濺射沉積。
6.沉積完成后，關閉濺射源，等待基板冷卻。
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序號?部件名稱?品牌?型號?數量
?1?機械泵組?SHINCRON?MTR-630?1個?
?2?分子泵?OSAKA?TG3451MVWB??2個
?3?深冷?POLY COLD?PFC-670HC?1個
?4?濺射陰極?SHINCRON??2對
?5?濺射電源?AE?PEII-10KW?2個
?6?真空腔室?SHINCRON?1100?2個
?7?ICP?SHINCRON?5KW????1個
?8?轉架?SHINCRON?1100?3個
?9?轉架推車?SHINCRON?1100?2個
?10?加熱系統?SHINCRON??1個
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