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二手晶片平坦度儀型號(hào)NidekFT-17翹曲度測(cè)量?jī)x器日立品牌晶圓片平面測(cè)試儀器轉(zhuǎn)讓包培訓(xùn)保修服務(wù)
二手晶片平坦度儀型號(hào)NidekFT-17翹曲度測(cè)量?jī)x器日立品牌晶圓片平面測(cè)試儀器轉(zhuǎn)讓包培訓(xùn)保修服務(wù)
產(chǎn)品價(jià)格:¥10.00(人民幣)
  • 規(guī)格:完善
  • 發(fā)貨地:廣東東莞
  • 品牌:
  • 最小起訂量:1
  • 免費(fèi)會(huì)員
    會(huì)員級(jí)別:試用會(huì)員
    認(rèn)證類型:企業(yè)認(rèn)證
    企業(yè)證件:通過認(rèn)證

    商鋪名稱:東莞市宏誠(chéng)光學(xué)制品有限公司

    聯(lián)系人:劉慧萍(先生)

    聯(lián)系手機(jī):

    固定電話:

    企業(yè)郵箱:2789038952@qq.com

    聯(lián)系地址:東莞市茶山鎮(zhèn)增埗村麒麟城工業(yè)區(qū)新 益大廈(集友工業(yè)邨對(duì)面)

    郵編:523378

    聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)說是在焊材網(wǎng)上看到的,謝謝!

    商品詳情
      產(chǎn)品參數(shù)
      品牌Nidek
      產(chǎn)品特性測(cè)量?jī)x
      是否進(jìn)口
      產(chǎn)地東莞
      加工定制
      測(cè)量范圍100
      測(cè)量精度0.002
      分辨率0.002
      電源電壓10
      可售賣地全國(guó)
      用途測(cè)晶片翹曲度
      型號(hào)ft-17


      Nidek 晶片平坦度/翹曲度測(cè)量?jī)xFT-17和FT-900(Si/Ge/GaAs/InP/SiC/LT/LN)

      Nidek高精密平面度檢測(cè)儀, 適用于透明晶體物體(如藍(lán)寶石晶片等)和LED外延晶片、芯片的檢測(cè)。

      其應(yīng)用不僅局限于對(duì)藍(lán)寶石襯底單面/雙面的表面平坦檢測(cè),而且更多地應(yīng)用于對(duì)外延之后,外延層表面品質(zhì)、TTV等的檢測(cè)和評(píng)估。

      在電腦顯示屏上,它可自動(dòng)生成三維立體的表面彩色效果圖,以幫助人們清楚細(xì)微地、直觀地了解和掌握對(duì)象物表面層生長(zhǎng)的情況。


      此外,它也適用于液晶電視屏幕面板所需要的大而平的圖形掩膜的檢測(cè)。


      Nidek高精密平面度檢測(cè)儀, 適用于透明晶體物體(如藍(lán)寶石晶片等)和LED外延晶片、芯片的檢測(cè)。

      其應(yīng)用不僅局限于對(duì)藍(lán)寶石襯底單面/雙面的表面平坦檢測(cè),而且更多地應(yīng)用于對(duì)外延之后,外延層表面品質(zhì)、TTV等的檢測(cè)和評(píng)估。

      在電

      測(cè)試項(xiàng)腦顯示屏上,它可自動(dòng)生成三維立體的表面彩色效果圖,以幫助人們清楚細(xì)微地、直觀地了解和掌握對(duì)象物表面層生長(zhǎng)的情況。


      該產(chǎn)品目前已在國(guó)內(nèi)大手廠商中廣泛采用,特別是在外延片的品質(zhì)檢測(cè)方面。頗受好評(píng)。

      據(jù)不完全統(tǒng)計(jì),至2012年底該產(chǎn)品已被國(guó)內(nèi)LED襯底和外延片80多家廠家所使用。


      吸附:GFLR、GF3D、GF3R、TV、GBIR、TAPER、TAng、SFLR、SFLD、SFQR、SF3R、SF3D、SBIR、SBID

      非吸附:BOW、SORI、整體應(yīng)力、局部應(yīng)力


      可測(cè)試晶片種類

      切割片、研磨片、拋光片、外延片、磊晶片

      可選配光刻區(qū)域模擬軟件、應(yīng)力分析軟件等




      FT-17 Series

      FT-900 Series

      無解析

      無顯示

      帶解析

      帶解析

      (V2規(guī)格)

      無解析

      無顯示

      帶解析

      帶解析

      (V2規(guī)格)

      測(cè)定方法

      光波干涉方式(斜入射)

      光源

      半導(dǎo)體激光(655nm、3mW)

      He-Ne激光(632.3A、5mW)

      樣本尺寸

      直徑130mm以下

      (平坦度測(cè)定100mm以下)

      直徑200mm以下

      樣本厚度

      2000um以下(根據(jù)測(cè)量承載臺(tái)不同,大可達(dá)10mm),其他厚度需客戶另行協(xié)商

      樣本種類

      Wafer(Si、化合物、酸化物、玻璃)、金屬片、硬盤(鋁、玻璃)等鏡面和非鏡面(反射率低的非鏡面不可測(cè)試)

      樣本傾斜角度

      垂直方向傾斜8度

      垂直或垂直方向傾斜8度

      干涉計(jì)設(shè)定敏感度

      1、2、3、4、5u/紋理(下底面基準(zhǔn)時(shí)只有1、2um/紋理,且厚度1mm以上時(shí)1um/紋理)

      測(cè)定范圍

      紋理敏感度30倍(根據(jù)紋理狀況以及測(cè)試鏡頭倍率關(guān)系,有時(shí)不能達(dá)到30倍)

      攝影鏡頭倍率

      3倍以上

      顯示分解能


      0.01um


      0.01um

      重復(fù)精度

      Repeatability:1б


      0.02S+0.02M(um)

      條件:樣本設(shè)定后連續(xù)測(cè)試

      S:紋理敏感度

      M:測(cè)定值


      0.02S+0.02M(um)

      條件:樣本設(shè)定后連續(xù)測(cè)試

      S:紋理敏感度

      M:測(cè)定值



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