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KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 制備 IFBA 芯塊 ZrB2 涂層
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 制備 IFBA 芯塊 ZrB2 涂層
產品價格:¥1(人民幣)
  • 規格:KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380
  • 發貨地:本地至全國
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  • 最小起訂量:1臺
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    商品詳情

      某科研機構在 IFBA 芯塊 ZrB2 涂層研究中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380  輔助鍍膜設備濺射沉積 ZrB2 涂層.

       

      KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:

      射頻離子源型號

      RFICP380

      Discharge 陽極

      射頻 RFICP

      離子束流

      >1500 mA

      離子動能

      100-1200 V

      柵極直徑

      30 cm Φ

      離子束

      聚焦, 平行, 散射

      流量

      15-50 sccm

      通氣

      Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

      典型壓力

      < 0.5m Torr

      長度

      39 cm

      直徑

      59 cm

      中和器

      LFN 2000

       

       

      研究利用金相顯微鏡、掃描電子顯微鏡、X射線衍射儀、電感耦合等離子體發射光譜儀、膠帶粘附性剝離等方法測定了沉積 ZrB2 涂層的厚度、形貌、物相結構、成分、附著力以及沉積速率等性能參數, 研究了各濺射工藝條件如芯塊表面清潔度、濺射氣體壓力、濺射功率密度和轉鼓轉速對ZrB 涂層沉積率和附著力的影響.

       

      KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.

       

      若您需要進一步的了解詳細信息或討論,  請參考以下聯絡方式:

      上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
      T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
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