商鋪名稱：伯東企業(yè)(上海)有限公司
聯(lián)系人：羅（先生）
聯(lián)系手機(jī)：
固定電話：
企業(yè)郵箱：marketing@hakuto-vacuum.cn
聯(lián)系地址：上海市浦東新區(qū)新金橋路1888號(hào)36號(hào)樓7樓702室 201206
郵編：
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)說是在焊材網(wǎng)上看到的，謝謝！
某廠商研發(fā)部門采用伯東 Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 用于蝕刻 KDP 晶體進(jìn)行拋光加工, 用以消除單點(diǎn)金剛石車削（SPDT）后 KDP 晶體表面留下的周期性小尺度波紋.
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 技術(shù)參數(shù)如下:
|
Ф4 inch X 6片 |
基板尺寸 |
< Ф3 inch X 8片 |
|
樣品臺(tái) |
樣品臺(tái)可選直接冷卻 / 間接冷卻, 0-90度旋轉(zhuǎn) |
|
|
離子源 |
20cm 考夫曼離子源 |
|
|
均勻性 |
±5% for 8”Ф |
|
|
硅片蝕刻率 |
20 nm/min |
|
|
溫度 |
<100 |
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 產(chǎn)品圖如上圖, 其主要構(gòu)件包括 Pfeiffer 分子泵, KRI 考夫曼離子源, 觸摸屏控制面板, 真空腔體, 樣品臺(tái). 如下圖：
.jpg)
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 的核心構(gòu)件離子源采用的是伯東公司代理美國 考夫曼博士創(chuàng)立的 KRI考夫曼公司的射頻離子源 RFICP220.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):
|
離子源型號(hào) |
RFICP 220 |
|
Discharge |
RFICP 射頻 |
|
離子束流 |
>800 mA |
|
離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
|
柵極直徑 |
20 cm Φ |
|
離子束 |
聚焦 |
|
流量 |
10-40 sccm |
|
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
|
長(zhǎng)度 |
30 cm |
|
直徑 |
41 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 的樣品臺(tái)可以 0-90 度旋轉(zhuǎn), 實(shí)現(xiàn)樣品均勻地接受離子的轟擊, 進(jìn)而實(shí)現(xiàn)提高樣品的加工質(zhì)量.
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 配套的是伯東 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700.
通過采用伯東 Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 刻蝕后, 單點(diǎn)金剛石車削后的表面由初始的6.54nm RMS, 經(jīng)過 1.76nm RMS 的平坦化層, 最終刻蝕轉(zhuǎn)移到 KDP 晶體表面得到 1.84nm RMS 的光滑表面.
若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)產(chǎn)品信息或討論 , 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式 :
上海伯東 : 羅先生 臺(tái)灣伯東 : 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯東版權(quán)所有, 翻拷必究!
.jpg)
