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KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源用于制備類金剛石薄膜
KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源用于制備類金剛石薄膜
產品價格:¥13(人民幣)
  • 規格:KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380
  • 發貨地:本地至全國
  • 品牌:
  • 最小起訂量:1臺
  • 免費會員
    會員級別:試用會員
    認證類型:企業認證
    企業證件:通過認證

    商鋪名稱:伯東企業(上海)有限公司

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    商品詳情

      國內某制造商在鈦合金表面制備一層類金剛石薄膜 DLC, 以期改善鈦合金表面摩擦學性能, 為了獲得均勻且致密的類金剛石薄膜, 采用伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 制備類金剛石薄膜.

      伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術參數:

      射頻離子源型號

      RFICP 380

      Discharge 陽極

      射頻 RFICP

      離子束流

      >1500 mA

      離子動能

      100-1200 V

      柵極直徑

      30 cm Φ

      離子束

      聚焦

      流量

      15-50 sccm

      通氣

      Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

      典型壓力

      < 0.5m Torr

      長度

      39 cm

      直徑

      59 cm

      中和器

      LFN 2000

       

      推薦理由:

      使用 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380可以準確、靈活地對樣品選定的區域進行沉積和刻蝕.

       

      運行結果:

      1. 沉積的類金剛石薄膜厚度約為 1.0 μm, 薄膜均勻且致密, 表面粗糙度Ra為13.23nm

      2. 類金剛石薄膜與基體結合力的臨界載荷達到31.0N

      3. DLC薄膜具有良好的減摩性, 摩擦系數為0.15, 耐磨性能得到提高

       

      伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質譜儀真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

       

       

      若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:

      上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
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