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離子源類型雖多, 目的卻無非在線清洗, 改善被鍍表面能量分布和調制增加反應氣體能量. 離子源可以大大改善膜與基體的結合強度, 同時膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會改善. 若是鍍工具耐磨層, 一般厚度較大而對膜厚均勻性要求不高, 可采用離子電流較大能級也較高的離子源, 如霍爾離子源或陽極層離子源.
為了保證鍍燈具鋁膜的質量, 提高生產率. 經過我司推薦采用大尺寸KRI 考夫曼離子源 EH 5500 安裝于生產設備 2050 mm 蒸鍍機中, 實現 LED-DBR 離子輔助鍍膜, 大大提高了鍍膜質量和提高生產率.
霍爾離子源是陽極在一個強軸向磁場的協作下將工藝氣體等離子化. 這個軸向磁場的強不平衡性將氣體離子分離并形成離子束. 由于軸向磁場的作用太強, 霍爾離子源離子束需要補充電子以中和離子流. 常見的中和源就是鎢絲（陰極）.
霍爾離子源的特點是：
1簡單耐用.
2離子電流與氣體流量幾乎成比例, 可獲得較大離子電流.
3鎢絲一般橫跨在出口, 收離子束沖擊很快會銷蝕, 尤其對反應氣體, 一般十幾個小時就需更換. 并且鎢絲還會有一定的污染. 為解決鎢絲的缺點. 有采用較長壽中和器的, 如一個小的空心陰極源.
KRI 考夫曼離子源客戶案例: 國內某知名燈具制造商
1. 離子源應用: 鍍燈具鋁膜.
2. 系統功能: 2050 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.
3. 離子源: 采用美國KRI 考夫曼離子源 KRi EH 5500. 離子源 EH 5500 提供的離子束 (不論是離子能量還是離子密度) 均是目前業界最高等級, 離子源 EH 5500 大尺寸的離子槍本體設計所產生超廣角的離子束涵蓋面積及高均勻度的離子濃度分布可以涵蓋 2050 mm 尺寸的蒸鍍機中大范圍的載具 (substrate holder), 無論是生產良率或是均勻性都可達到最高生產效能.
4. 離子源功能: 通過 KRI EH 5500 霍爾源實現離子輔助鍍膜 IBAD 及預清潔 Pre-clean 功能后, 所生產出的燈具無論是環境脫膜測試, 耐刮測試, 膜層應力測試等等… 都優于目前一般業界蒸鍍機所搭配的離子源.
EH 5500 離子源本體
EH 5500 離子源控制器
上海伯東是美國KRI 考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc 中國總代理. 美國KRI 考夫曼公司離子源已廣泛應用于離子濺射鍍膜 IBSD. KRI 考夫曼離子源可控制離子的強度及濃度, 使濺射時靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質量之薄膜. KRI 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式KRI 考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式KRI 考夫曼離子源.
