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硝酸鈰銨用于光學薄膜制備介紹：
氧化劑can 半導體器件絕緣膜制備中的作用：
硝酸鈰銨在半導體器件制造中，可通過化學氣相沉積（CVD）技術，利用硝酸鈰銨制備氧化鈰絕緣薄膜。這種薄膜絕緣性能良好，熱穩定性高，能承受高溫工藝過程，且與硅片表面附著力強。比如說集成電路制造工藝中，采用該技術制備的絕緣膜，絕緣電阻達到\(10^{12}\)Ω 以上，提高了半導體器件的性能和可靠性。
平板顯示器透明導電膜制備
硝酸鈰銨鍍膜可與銦錫氧化物（ITO）等復合，通過電化學沉積等方法制備透明導電膜，用于平板顯示器。該復合薄膜可見光透過率大于 90%，方塊電阻可達幾十歐姆每平方，能滿足平板顯示器對透明導電膜的性能要求。
硝酸鈰銨在金屬防腐涂層制備中：硝酸鈰銨可通過電化學沉積等方法在金屬表面形成含有氧化鈰的防腐涂層，能阻擋氧氣和水分與金屬接觸，抑制金屬腐蝕。鋼鐵制品表面鍍上該涂層后，經過鹽霧試驗測試，耐腐蝕時間可達 500-1000 小時，耐腐蝕性能相比未鍍膜制品提高數倍。
硝酸鈰銨用于無鉻鈍化膜制備：在鍍鋅層的鈍化處理中，可將鍍鋅產品先放入含有鉬酸銨、磷酸等的第一鈍化液中浸泡，再放入含有硝酸亞鈰、雙氧水等的第二鈍化液中浸泡，最后烘干制得無鉻鈍化膜。該方法可在同樣鹽霧環境下獲得與有鉻鈍化相同的耐蝕性效果，減少環境污染。
分劃板功能性薄膜制備：硝酸鈰銨可作為鈰基涂層的前驅體原料，與鈦鹽、鋯鹽等其他金屬鹽混合水解，通過溶膠 - 凝膠法形成含鈰復合氧化物溶膠，涂覆于分劃板表面后燒結，得到 CeO?-TiO?等復合涂層，可提升分劃板表面硬度和光學性能，用于刻度線的增亮或抗刮擦保護
