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句容廢氣治理免費(fèi)安裝指導(dǎo)句容廢氣治理

wutianhuan檢測(cè)要求

(1)治理設(shè)備應(yīng)設(shè)罝性采樣口，采樣口的設(shè)罝應(yīng)符合HJ/T 1，采樣

應(yīng)GB/T 1615要求。采樣頻次和檢測(cè)項(xiàng)0應(yīng)根據(jù)T_藝控制要求確屯。

(2)處量>10000m3/h的應(yīng)裝設(shè)廢氣濃度在線連續(xù)檢測(cè)裝罝：處

莆<10000m3/h的可以不裝設(shè)廢氣濃度在線連續(xù)檢測(cè)裝罝，伹應(yīng)配備相應(yīng)的

濃度檢測(cè)儀器定期進(jìn)行廢氣濃度檢測(cè)。在線連續(xù)監(jiān)測(cè)的運(yùn)行應(yīng)符合國(guó)家

自動(dòng)監(jiān)測(cè)濘理辦法的要求。

(3)有機(jī)廢氣的濃度檢測(cè)儀目前使用的主要是總剄檢測(cè)儀。在大多數(shù)情況下

使用總徑檢測(cè)儀就可以檢測(cè)要求。

(4)吸附器、催化器的加熱室和反應(yīng)室內(nèi)部裝設(shè)具有自動(dòng)報(bào)鳘功能的多

點(diǎn)溫度檢測(cè)裝置，用于溫度的監(jiān)控，包括預(yù)熱溫度和反應(yīng)器進(jìn)出口氣流溫度等。

溫度傳感器應(yīng)按JJF 1049的要求標(biāo)足后使用。

在吸附和吸附劑的再生中，吸附器內(nèi)的溫度都在不斷地發(fā)生變化。特別

是對(duì)于較髙濃度氣體的吸附，由于吸附放熱，床層的溫升明顯。在吸附劑的再生

中，特別是使用熱氣流吹掃再生和髙溫水蒸氣罝換再生時(shí)，再生氣流溫度過(guò)

髙，床層中達(dá)到一泣的溫度時(shí)就會(huì)發(fā)生危險(xiǎn)，閔此一般要求對(duì)吸附器的溫度進(jìn)行

監(jiān)控。催化器的加熱室相反應(yīng)室內(nèi)部應(yīng)裝設(shè)具有R動(dòng)報(bào)蝥功能的多點(diǎn)溫度檢

測(cè)裝罝是催化器設(shè)計(jì)的某本要求。

(5)應(yīng)定期檢測(cè)過(guò)濾兩端的壓差。

7. 2控制要求

在一般情況下，廢氣治理設(shè)備與生產(chǎn)工藝相比應(yīng)該先開(kāi)后停，前后要有約10

分鐘的時(shí)間間隔，似需要巧生產(chǎn)車間進(jìn)行脅調(diào)，實(shí)現(xiàn)連鎖控制。

治理丁程應(yīng)采用總線分布控制，實(shí)現(xiàn)對(duì)的控制及進(jìn)出口溫度、壓力

和流量等的遠(yuǎn)程集中控制。

控制閥門應(yīng)選用防爆和丁藝要求的氣動(dòng)或電動(dòng)控制。防爆招施采取隔爆

型和本安型相結(jié)合。本安型防爆原理是將執(zhí)行器或控制電磁閥中的線圈經(jīng)過(guò)底功率技術(shù)處理了電壓、電流，將功率在低極限以下；隔爆原理的運(yùn)用，如在防爆廠各種電氣元件的連接采用特殊的防爆接頭等。

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彩印廠廢氣凈化工程

應(yīng)用范圍
△ 工業(yè)生產(chǎn)中產(chǎn)生有機(jī)廢氣的凈化；
△ 生物、化工行業(yè)在其各種加工中產(chǎn)生異味、惡臭廢氣的凈化；
△ PV、人造革油煙凈化，增塑劑回收；
△ 印刷油墨廢氣的凈化等。

低溫等離子體和催化氧化凈化原理：
1、等離子體的概念：氣體在高壓電場(chǎng)作用下產(chǎn)生電離，電離形成的輝光態(tài)即為等離子體，并被稱之為的第四態(tài)。等離子體由電子、離子、基和中性粒子組成，總體上保持電中性。
2、低溫等離子體凈化原理：脈沖電暈放電和介質(zhì)阻擋放電是在氣態(tài)污染物凈化方面的兩種凈化技術(shù)。等離子體中存在很多電子、離子、活性基和激發(fā)態(tài)分子等有極高化學(xué)活性的粒子，使很多需要很高活化能的化學(xué)反應(yīng)能夠發(fā)生，使常規(guī)難以祛除的污染物得以轉(zhuǎn)化或分解。對(duì)于有機(jī)和異味惡臭廢氣在等離子體中的氧化降解機(jī)理，反應(yīng)主要有以下幾個(gè)：
（1）高能電子的作用下強(qiáng)氧化性基O、OH、HO2等的產(chǎn)生；
（2）有機(jī)物分子受到高能電子碰撞，被激發(fā)及原子鍵斷裂形成碎片基團(tuán)或原子；
（3）O、OH、HO2與激發(fā)原子有機(jī)物分子、破碎的分子基團(tuán)、基等一系列基反應(yīng)，終將有機(jī)物分子氧化降解為二氧化碳和水等無(wú)害。

3、催化氧化凈化原理：在等離子電場(chǎng)凈化外，我公司還應(yīng)用具有催化氧化能力的催化氧化劑，進(jìn)一步凈化降解有機(jī)和異味惡臭廢氣，該催化氧化劑以稀土為載體，同時(shí)浸漬一定比例的溶液，經(jīng)科學(xué)工藝合成直徑在2～4mm顆粒狀催化氧化劑。
首先，該氧化劑微孔多，吸附性強(qiáng)，具有很大的比表面積，約800～1200M2/g，因此使用周期長(zhǎng)，一般為一年更換一次。其次，氧化性強(qiáng)，顆粒狀氧化劑里外微孔都浸漬了，氧化性特別強(qiáng)。再則直徑2～4mm顆粒狀催化氧化劑裝模在V字型的箱子內(nèi)，風(fēng)阻小，氧化均勻，更換容易。
催化氧化機(jī)理實(shí)質(zhì)是氧化還原機(jī)理，通過(guò)得失電子的化學(xué)將污染物中的碳氧化為二氧化碳，將廢氣中的異味氧化還原為二氧化碳和水。
該催化氧化劑具有、、更換方便、無(wú)二次污染等優(yōu)點(diǎn)，能進(jìn)一步氧化前幾段未處理盡的有害和祛除廢氣的異味，終達(dá)到排放。

4、廢氣凈化機(jī)工藝流程圖：

凈化裝置擬設(shè)計(jì)為五段凈化：
?段為洗滌塔清洗裝置
     除去瀝青煙氣中的大顆粒煙塵并使廢氣溫度。瀝青煙氣的硫化氯、等氣體與塔中藥劑中和洗滌，以保證后續(xù)處理效果。
?第二段為除水裝置
     通過(guò)除水器除去廢氣中大顆粒水汽，以便后續(xù)的凈化處理。
?第三段為預(yù)處理過(guò)濾裝置
使瀝青煙氣均勻通過(guò)凈化裝置，確保煙氣凈化效率大化，同時(shí)利用機(jī)械碰撞、重力沉降的原理，使均流板上形成的大顆粒油滴集油槽內(nèi)。
?第四段為等離子體凈化裝置
低溫等離子體電暈放電技術(shù)降解有害廢氣是科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)。這種放電產(chǎn)生于兩個(gè)電極之間，并在脈沖高壓電作用下對(duì)空氣放電，將空氣，從而產(chǎn)生等離子體。其產(chǎn)生的大量活性基（OH—、O2—、H+、O3）可以直接打開(kāi)有害廢氣各種氣體分子之間的分子鍵，使有害氣體分解為簡(jiǎn)單的小分子，從而對(duì)有害氣體和異味進(jìn)行降解和氧化，終產(chǎn)物對(duì)人體和均無(wú)害。
?第五段為活性炭吸附裝置
在等離子電場(chǎng)凈化外，我公司還應(yīng)用204型活性炭顆粒，進(jìn)一步凈化吸附有機(jī)和異味惡臭廢氣。
此類活性炭顆粒以含碳材料為載體，經(jīng)科學(xué)工藝合成直徑在2～4mm 的活性炭顆粒，可吸附等有害氣體。該顆粒微孔多，吸附性強(qiáng)，具有很大的比表面積，約800～1200m2/mg，因此使用周期長(zhǎng)，一般為六個(gè)月更換一次。其次，顆粒狀活性炭里外微孔都浸漬了，氧化性特別強(qiáng)。再則，活性炭顆粒裝模在V字型的箱子內(nèi)，風(fēng)阻小，氧化均勻，更換容易。
    因此選用活性炭顆粒吸附裝置，進(jìn)一步吸附通過(guò)前期處理后氣體中殘余的異味，使終凈化效率達(dá)到90%以上。

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在催化劑的作用下，使有機(jī)廢氣中的碳?xì)浠�合物在溫度較低的條件下迅速氧化成水和二氧化碳，達(dá)到治理的目的。催化法處理工業(yè)有機(jī)廢氣是20世紀(jì)40年代末出現(xiàn)的技術(shù)。回收目的和要求：有機(jī)物回收率要求，排氣、排水是否有達(dá)標(biāo)排放要求，當(dāng)?shù)丨h(huán)保的特殊要求（廢氣排放）。 采用填料塔對(duì)廢氣進(jìn)行凈化，適合于連續(xù)和間歇排放廢氣的治理；節(jié)能環(huán)保。

【標(biāo)題廢氣治理

催化裝置設(shè)計(jì)時(shí)應(yīng)考慮以下幾方面問(wèn)題：本裝置主要用于石化、冶金、機(jī)械、機(jī)電、涂裝、印刷、家電以及制鞋行業(yè)車間里揮發(fā)或泄漏出的有害有機(jī)廢氣的凈化及臭味的，實(shí)用與濃度較高，含有雜質(zhì)，用其他技術(shù)處理有一定難度的各種風(fēng)量的廢氣時(shí)采用。公用工程情況：蒸汽壓力、壓縮空氣、循環(huán)水、冷卻水溫度。 除霧裝置的除霧效率隨氣流速度的而，這是由于流速高，作用于霧滴上的慣大，有利于氣液的分離。但是，流速的將造成阻力，也使能耗。而且流速的有一定的限度，流速過(guò)高會(huì)造成二次帶水，從而除霧效率。通常將通過(guò)除霧器斷面的且又不致二次帶水時(shí)的煙氣流速定義為臨界流速，該速度與除霧器結(jié)構(gòu)、帶水負(fù)荷、氣流方向、除霧器布置等因素有關(guān)。設(shè)計(jì)流速一般選定在3.5—5.5m/s。氣體利用收集排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束、臭氧O3及納米光催化TiO2等技術(shù)組合起來(lái)對(duì)廢氣進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使廢氣降解轉(zhuǎn)化成無(wú)害無(wú)味化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道。從理論上講，只要半導(dǎo)體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導(dǎo)體就有可能用作光催化劑。常見(jiàn)的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對(duì)特定反應(yīng)有突出優(yōu)點(diǎn)，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導(dǎo)體帶隙能較小，跟太陽(yáng)光譜中的近紫外光段有的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對(duì)而言，Ti02的綜合性能，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。