廢氣凈化塔的適用范圍：
電鍍、表面處理、單晶硅酸洗、半導(dǎo)體清洗、電子制造、漆包線、噴涂用廢氣凈化塔
漆噴涂、涂裝生產(chǎn)等行業(yè)及領(lǐng)域。屬于兩相逆流氣體凈化塔填料吸收塔。廢氣從廢氣處理塔的下入口切向地進(jìn)入凈化塔。在風(fēng)扇的動(dòng)態(tài)作用下，它快速地填充進(jìn)氣段的空間，然后均勻地通過平衡段上升到填料吸收段。在填料表面，氣相中的酸性（或堿性）物質(zhì)與液相中的堿性（或酸性）物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)物（主要是可溶性酸（堿）與吸收劑流入較低的儲(chǔ)罐。未完全吸收的酸性（或堿性）氣體繼續(xù)上升到階段的噴霧。
適用于電鍍生產(chǎn)廢氣凈化塔、表面處理、單晶硅酸洗、半導(dǎo)體、電子制造、漆包線噴漆清潔和涂料生產(chǎn)等行業(yè)和領(lǐng)域。
利用攜帶的熱量對(duì)吸附床層進(jìn)行加熱升溫，使被吸附的VOCs組分解析出來，并被一同帶入冷凝器，經(jīng)過兩級(jí)換熱后，部分有機(jī)物被冷凝液化，終流入儲(chǔ)罐進(jìn)行儲(chǔ)存回收，而不凝氣體則返回其他吸附罐內(nèi)，除去所含高濃度有機(jī)物后，僅剩純凈的再次返回到脫附風(fēng)機(jī)循環(huán)利用。 保證了處理單元大功率的承受，高能量的輸出。(2)低溫等離子體處理系統(tǒng)必須要有一定的放電處理功率。低溫等離子設(shè)備通常需要在2～5瓦時(shí)/立方米/小時(shí)。即1000立方米/時(shí)的風(fēng)量需要處理的功率為2KW～5KW。如果 稱1000立方米/時(shí)的風(fēng)量只需要幾十或幾百瓦的電功率，則也就是靜電(除塵)處理或局部處理而已。
低溫等離子體應(yīng)用范圍廣，氣體的流速和濃度對(duì)于氣態(tài)污染物治理應(yīng)用來說是兩個(gè)非常重要的因素。生物過濾和燃燒能應(yīng)用于較高濃度范圍，但卻受氣體的流速所限。而低溫等離子體對(duì)氣體的流速和濃度都有一個(gè)很寬的應(yīng)用范圍，低溫等離子設(shè)備其應(yīng)用廣泛不言而喻。 全新改版，點(diǎn)擊查看。鑄造廢氣處理解決方案鑄造廠空氣污染具備下述特點(diǎn)：污染源分散，濃度較低，氣體量大。在美國列出的總共188種危險(xiǎn)空氣污染物中，鑄造廢氣中己經(jīng)檢測(cè)出的有40多種，對(duì)環(huán)境和健康都有危害。 等離子體目前采用的有四類，介質(zhì)阻擋放電（雙介質(zhì)、單介質(zhì)）、放電（金屬、纖維）、板式放電、微波放電，實(shí)際應(yīng)用也有采用組合模式。因其電離后產(chǎn)生的電子均能量在10ev，適當(dāng)控制反應(yīng)條件可以實(shí)現(xiàn)一般情況下難以實(shí)現(xiàn)或速度很慢的化學(xué)反應(yīng)十分快速。
行業(yè)簡(jiǎn)介涂裝是指通過噴涂方式將底材覆蓋上一層涂膜，以達(dá)到保護(hù)、裝飾和特殊功能性的要求，達(dá)到延長(zhǎng)使用壽命、美觀、增加制品附加值之目的。涂裝是對(duì)金屬和非金屬表面覆蓋保護(hù)層或裝飾層，而涂裝機(jī)械就是建立在涂裝的基礎(chǔ)上而迅速發(fā)展的行業(yè)。 等離子體目前采用的有四類，介質(zhì)阻擋放電（雙介質(zhì)、單介質(zhì)）、放電（金屬、纖維）、板式放電、微波放電，實(shí)際應(yīng)用也有采用組合模式。因其電離后產(chǎn)生的電子均能量在10ev，適當(dāng)控制反應(yīng)條件可以實(shí)現(xiàn)一般情況下難以實(shí)現(xiàn)或速度很慢的化學(xué)反應(yīng)十分快速。 轉(zhuǎn)輪濃縮和氧化RTO(RCO):RCO:蓄熱式熱力氧化爐，RegenerativeThermalOxidizers；VOC:揮發(fā)性有機(jī)化合物，VolatileorganicCompounds；【廢氣處理工藝流程圖】RCO特點(diǎn)：處理量:250.00——500，000.00Sm3/h；所需的熱氧化溫度低，比較節(jié)能，運(yùn)行費(fèi)用較RTO。 特色：廢氣管理功率高，設(shè)備占地面積小。4、低濃度、大風(fēng)量的噴漆廢氣處理，可選用光催化噴漆廢氣處理辦法。改變了活性炭吸附方法的工作費(fèi)用較高的缺點(diǎn)，凈化功率高，工作安穩(wěn)，安全系數(shù)高，不存在替換耗材的缺點(diǎn)。