廢氣凈化塔的適用范圍：
電鍍、表面處理、單晶硅酸洗、半導體清洗、電子制造、漆包線、噴涂用廢氣凈化塔
漆噴涂、涂裝生產等行業及領域。屬于兩相逆流氣體凈化塔填料吸收塔。廢氣從廢氣處理塔的下入口切向地進入凈化塔。在風扇的動態作用下，它快速地填充進氣段的空間，然后均勻地通過平衡段上升到填料吸收段。在填料表面，氣相中的酸性（或堿性）物質與液相中的堿性（或酸性）物質發生反應，反應物（主要是可溶性酸（堿）與吸收劑流入較低的儲罐。未完全吸收的酸性（或堿性）氣體繼續上升到階段的噴霧。
適用于電鍍生產廢氣凈化塔、表面處理、單晶硅酸洗、半導體、電子制造、漆包線噴漆清潔和涂料生產等行業和領域。
經粗算，一套20萬m3/h處理量的蓄熱燃燒設備，其氮氧化物排放量約等于一臺35t/h的燃煤流化床鍋爐。在有機廢氣的催化燃燒設備（RCO）工藝中，由于采用自來水作為水噴淋進行預處理，水中的氯離子及有機物質自帶的氯離子在催化燃燒室內（200~500度）極易生成�！ ∷獬貎葤煊袕椥岳w維復合填料以增加微生物量，池內存在高濃度的污泥混合液及生物膜，在池內有機物被兼氧菌降解，了廢水的可生化性。同時，在微生物的作用下，將有機氮和氨態氮轉化為N2和NxO氣體的過程。水解池流入氧化池，在好氧的微生物作用下，將廢水中NH4+轉化為NO2-和NO3-。
等離子體中包含大量的高能電子、正負離子、激發態粒子和具有強氧化性的后型自由基，這些活性粒子和部分廢氣分子碰撞結合，同時產生的大量OH、HO2、O等活性自由基和氧化性極強的O3，能與有害氣體分子發生化學反應，后生成無害產物�！ V紫外線燈：利用的高能高臭氧UV紫外線光束照射廢氣，裂解工業廢氣如：氨、胺、、甲硫氫、甲硫醇、甲、丁酯、、、和苯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、的?�！ 〉蜏氐入x子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內發生分解，并發生后續的各種反應以達到降解污染物的目的。（注：低溫等離子體相對于高溫等離子體而言，屬于常溫運行。
一、產品介紹：DGS-B根據廢氣處理多年生產酸霧凈化塔的基礎上，改進的新一代酸霧處理設備，該設備阻力小、能耗低、噪音低、處理效率高。采用特殊噴淋系統、填料和收霧器，其噴嘴采用的低壓、大流量、細霧噴嘴�！ 」庋醮呋瘡U氣處理原理光催化氧化利用光激發氧化將O2、H2O2等氧化劑與光輻射相結合。所用光主要為紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工藝，可以用于處理污水中CHCl3、CCl4、等難降解物質。另外，在有紫外光的Fenton體系中，紫外光與鐵離子之間存在著協同效應，使H2O2分解產生自由基的速率大大加快，促進有機物的氧化去除�！ Σ荒芪展庾拥奈廴疚镔|效果差，對于成分復雜的廢氣無法達到預期處理效果。利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)，眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對工業廢氣及其它性異味有立竿見影的清除效果。 一般使用洗滌塔做為等離子廢氣處理系統的預處理異味氣體從氣體收集系統收集后，一部分廢氣需要進行預處理，除水后進入等離子體反應區，在高能電子的作用下，使異味分子受激發，帶電粒子或分子間的化學鍵被打斷，同時。