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wutianhuan檢測要求
(1)治理設備應設罝性采樣口，采樣口的設罝應符合HJ/T 1，采樣
應GB/T 1615要求。采樣頻次和檢測項0應根據(jù)T_藝控制要求確屯。
(2)處量>10000m3/h的應裝設廢氣濃度在線連續(xù)檢測裝罝：處
莆<10000m3/h的可以不裝設廢氣濃度在線連續(xù)檢測裝罝，伹應配備相應的
濃度檢測儀器定期進行廢氣濃度檢測。在線連續(xù)監(jiān)測的運行應符合國家
自動監(jiān)測濘理辦法的要求。
(3)有機廢氣的濃度檢測儀目前使用的主要是總剄檢測儀。在大多數(shù)情況下
使用總徑檢測儀就可以檢測要求。
(4)吸附器、催化器的加熱室和反應室內(nèi)部裝設具有自動報鳘功能的多
點溫度檢測裝置，用于溫度的監(jiān)控，包括預熱溫度和反應器進出口氣流溫度等。
溫度傳感器應按JJF 1049的要求標足后使用。
在吸附和吸附劑的再生中，吸附器內(nèi)的溫度都在不斷地發(fā)生變化。特別
是對于較髙濃度氣體的吸附，由于吸附放熱，床層的溫升明顯。在吸附劑的再生
中，特別是使用熱氣流吹掃再生和髙溫水蒸氣罝換再生時，再生氣流溫度過
髙，床層中達到一泣的溫度時就會發(fā)生危險，閔此一般要求對吸附器的溫度進行
監(jiān)控。催化器的加熱室相反應室內(nèi)部應裝設具有R動報蝥功能的多點溫度檢
測裝罝是催化器設計的某本要求。
(5)應定期檢測過濾兩端的壓差。
7. 2控制要求
在一般情況下，廢氣治理設備與生產(chǎn)工藝相比應該先開后停，前后要有約10
分鐘的時間間隔，似需要巧生產(chǎn)車間進行脅調(diào)，實現(xiàn)連鎖控制。
治理丁程應采用總線分布控制，實現(xiàn)對的控制及進出口溫度、壓力
和流量等的遠程集中控制。
控制閥門應選用防爆和丁藝要求的氣動或電動控制。防爆招施采取隔爆
型和本安型相結合。本安型防爆原理是將執(zhí)行器或控制電磁閥中的線圈經(jīng)過底功率技術處理了電壓、電流，將功率在低極限以下；隔爆原理的運用，如在防爆廠各種電氣元件的連接采用特殊的防爆接頭等。
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彩印廠廢氣凈化工程
應用范圍
△ 工業(yè)生產(chǎn)中產(chǎn)生有機廢氣的凈化；
△ 生物、化工行業(yè)在其各種加工中產(chǎn)生異味、惡臭廢氣的凈化；
△ PV、人造革油煙凈化，增塑劑回收；
△ 印刷油墨廢氣的凈化等。
低溫等離子體和催化氧化凈化原理：
1、等離子體的概念：氣體在高壓電場作用下產(chǎn)生電離，電離形成的輝光態(tài)即為等離子體，并被稱之為的第四態(tài)。等離子體由電子、離子、基和中性粒子組成，總體上保持電中性。
2、低溫等離子體凈化原理：脈沖電暈放電和介質(zhì)阻擋放電是在氣態(tài)污染物凈化方面的兩種凈化技術。等離子體中存在很多電子、離子、活性基和激發(fā)態(tài)分子等有極高化學活性的粒子，使很多需要很高活化能的化學反應能夠發(fā)生，使常規(guī)難以祛除的污染物得以轉化或分解。對于有機和異味惡臭廢氣在等離子體中的氧化降解機理，反應主要有以下幾個：
（1）高能電子的作用下強氧化性基O、OH、HO2等的產(chǎn)生；
（2）有機物分子受到高能電子碰撞，被激發(fā)及原子鍵斷裂形成碎片基團或原子；
（3）O、OH、HO2與激發(fā)原子有機物分子、破碎的分子基團、基等一系列基反應，終將有機物分子氧化降解為二氧化碳和水等無害。
3、催化氧化凈化原理：在等離子電場凈化外，我公司還應用具有催化氧化能力的催化氧化劑，進一步凈化降解有機和異味惡臭廢氣，該催化氧化劑以稀土為載體，同時浸漬一定比例的溶液，經(jīng)科學工藝合成直徑在2～4mm顆粒狀催化氧化劑。
首先，該氧化劑微孔多，吸附性強，具有很大的比表面積，約800～1200M2/g，因此使用周期長，一般為一年更換一次。其次，氧化性強，顆粒狀氧化劑里外微孔都浸漬了，氧化性特別強。再則直徑2～4mm顆粒狀催化氧化劑裝模在V字型的箱子內(nèi)，風阻小，氧化均勻，更換容易。
催化氧化機理實質(zhì)是氧化還原機理，通過得失電子的化學將污染物中的碳氧化為二氧化碳，將廢氣中的異味氧化還原為二氧化碳和水。
該催化氧化劑具有、、更換方便、無二次污染等優(yōu)點，能進一步氧化前幾段未處理盡的有害和祛除廢氣的異味，終達到排放。
4、廢氣凈化機工藝流程圖：
凈化裝置擬設計為五段凈化：
?段為洗滌塔清洗裝置
除去瀝青煙氣中的大顆粒煙塵并使廢氣溫度。瀝青煙氣的硫化氯、等氣體與塔中藥劑中和洗滌，以保證后續(xù)處理效果。
?第二段為除水裝置
通過除水器除去廢氣中大顆粒水汽，以便后續(xù)的凈化處理。
?第三段為預處理過濾裝置
使瀝青煙氣均勻通過凈化裝置，確保煙氣凈化效率大化，同時利用機械碰撞、重力沉降的原理，使均流板上形成的大顆粒油滴集油槽內(nèi)。
?第四段為等離子體凈化裝置
低溫等離子體電暈放電技術降解有害廢氣是科技領域內(nèi)的技術。這種放電產(chǎn)生于兩個電極之間，并在脈沖高壓電作用下對空氣放電，將空氣，從而產(chǎn)生等離子體。其產(chǎn)生的大量活性基（OH—、O2—、H+、O3）可以直接打開有害廢氣各種氣體分子之間的分子鍵，使有害氣體分解為簡單的小分子，從而對有害氣體和異味進行降解和氧化，終產(chǎn)物對人體和均無害。
?第五段為活性炭吸附裝置
在等離子電場凈化外，我公司還應用204型活性炭顆粒，進一步凈化吸附有機和異味惡臭廢氣。
此類活性炭顆粒以含碳材料為載體，經(jīng)科學工藝合成直徑在2～4mm 的活性炭顆粒，可吸附等有害氣體。該顆粒微孔多，吸附性強，具有很大的比表面積，約800～1200m2/mg，因此使用周期長，一般為六個月更換一次。其次，顆粒狀活性炭里外微孔都浸漬了，氧化性特別強。再則，活性炭顆粒裝模在V字型的箱子內(nèi)，風阻小，氧化均勻，更換容易。
因此選用活性炭顆粒吸附裝置，進一步吸附通過前期處理后氣體中殘余的異味，使終凈化效率達到90%以上。
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廢氣流經(jīng)蓄熱室A升溫后進入氧化室焚燒，成為凈化的高溫氣體后離開氧化室，進入蓄熱室B（在前面的循環(huán)中已被冷卻），釋放熱量，降溫后，而蓄熱室B吸收大量熱量后升溫（用于下一個循環(huán)加熱廢氣）。處理后氣體離開蓄熱室B，經(jīng)引風機大氣。特點：與目前國內(nèi)常用的異味氣體治理來比較，光電等離子體工業(yè)廢氣治理技術具有以下特點：低溫等離子體技術應用于惡臭氣體的治理中，具有處理效果好，運行費用低廉、無二次污染、運行、操作簡單方便等優(yōu)點。YCY-Ⅶ有機廢氣蓄熱式焚燒爐（RTO）裝置催化基本原理 催化是借助催化劑在低溫下(200～400℃)下，實現(xiàn)對有機物的完全氧化，因 此，能耗少，操作簡便，，凈化效率高，在有機廢氣特別是回收價值不大的有機廢氣凈化方面，比如化工，噴漆、絕緣材料、漆包線、涂料生產(chǎn)等行業(yè)應用較廣，已有不少定型設備可供選用。 一、催化原理及裝置組成 (1)催化劑定義 催化劑是一種能化學反應速率，控制反應方向，在反應前后本身的化學性質(zhì)不發(fā)生改變的。 (2)催化作用機理 催化作用的機理是一個很復雜的問題，這里僅做簡介。在一個化學反應中，催化劑的加入并不能改變原有的化學平衡，所改變的僅是化學反應的速度，而在反應前后，催化劑本身的性質(zhì)并不發(fā)生變化。那么，催化劑是怎樣加速了反應速度呢了既然反應前后催化劑不發(fā)生變化，那么催化劑到底參加了反應沒有?實際上，催化劑本身參加了反應，正是由于它的參加，使反應改變了原有的途徑，使反應的活化能，從而加速了反應速度。例如反應A+B→C是通過中間活性結合物(AB)過渡而成的，即： A+B→[AB]→C 其反應速度較慢。當加入催化劑K后，反應從一條很容易進行的途徑實現(xiàn)： A+B+2K→[AK]+[BK]→[CK]+K→C+2K 中間不再需要[AB]向C的過渡，從而加快了反應速度，而催化劑并未改變性質(zhì)。 (3)催化的工藝組成 不同的排放和不同的廢氣，有不同的工藝流程。但不論采取哪種工藝流程，都由如下工藝單元組成。 ①廢氣預處理 為了避免催化劑床層的堵塞和催化劑中毒，廢氣在進入床層之前必須進行預處理，以除去廢氣中的粉塵、液滴及催化劑的毒物。 ②預熱裝置 預熱裝置包括廢氣預熱裝置和催化劑器預熱裝置。因為催化劑都有一個催化活性溫度，對催化來說稱催化劑起燃溫度，必須使廢氣和床層的溫度達到起燃溫度才能進行催化，因此，必須設置預熱裝置。但對于的廢氣本身溫度就較高的，如漆包線、絕緣材料、烤漆等烘干排氣，溫度可達300℃以上，則不必設置預熱裝置。
【標題有機廢氣治理
5、運行成本較低，比常用的蓄熱式爐RTO節(jié)約運行費用5-8倍，每立方米氣量運行費用為0.3～0.9分錢，部分高濃度廢氣可以通過空氣稀釋后用技術處理；其它影響因素：資金承受能力、技術裝備水平。 （8）設計的換熱流程，余熱充分回用，運行成本；活性炭工作原理：活性炭的吸附可分為物理吸附和化學吸附。本生產(chǎn)為非連續(xù)生產(chǎn)，間歇排放低濃度、大流量氣體，且存在幾個工作面，系用在引風條件下活性炭吸附凈化氣體。原料中有大量鈦、輕質(zhì)碳酸鈣等微 粒，流量大、流速快情況下，固體細粉風管，使生產(chǎn)原料配比失控，影響產(chǎn)品，而且流量、流速增大動力消耗相應增大。實踐證明，用活性炭纖維作吸附 劑，采用0．25～0．3m／s的流速、5000m 3／h流量保證逸出的有害氣體進入風管，車間達到衛(wèi)生。 采用負壓吸風，各污染源點與除塵器距離不同，各吸風管道內(nèi)氣流壓力損失相差較大。為保證各吸風口氣體不逸出，在各吸風管進口處設置調(diào)節(jié)閘板進行人工調(diào)節(jié)控制。從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。廢氣處理設備工業(yè)有機廢氣的低溫等離子體的治理設備：等離子體就是處于電離狀態(tài)的氣體，其英文名稱是plasma，它是由美國科學 muir，于1927年在研究低氣壓下蒸氣中放電現(xiàn)象時命名的。等離子體由大量的子、中性原子、激發(fā)態(tài)原子、光子和基等組成，但電子和正離子的電荷數(shù)必須體出電中性，這就是“等離子體”的含義。等離子體具有導電和受電磁影響的許多方面與固體、和氣體不同，因此又有人把它稱為的第四種狀態(tài)。根據(jù)狀態(tài)、溫度和離子密度，等離子體通常可以分為高溫等離子體和低溫等離子體（包子體和冷等離子體）。其中高溫等離子體的電離度接近1，各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學平衡狀態(tài)，它主要應用在受控熱核反應研究方面。而低溫等離子體則學非平衡狀態(tài)，各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti)，可達104K以上，而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300～500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。
