太倉(cāng)有機(jī)廢氣處理塔免費(fèi)安裝指導(dǎo)太倉(cāng)有機(jī)廢氣處理塔
wutianhuan檢測(cè)要求
(1)治理設(shè)備應(yīng)設(shè)罝性采樣口，采樣口的設(shè)罝應(yīng)符合HJ/T 1，采樣
應(yīng)GB/T 1615要求。采樣頻次和檢測(cè)項(xiàng)0應(yīng)根據(jù)T_藝控制要求確屯。
(2)處量>10000m3/h的應(yīng)裝設(shè)廢氣濃度在線連續(xù)檢測(cè)裝罝：處
莆<10000m3/h的可以不裝設(shè)廢氣濃度在線連續(xù)檢測(cè)裝罝，伹應(yīng)配備相應(yīng)的
濃度檢測(cè)儀器定期進(jìn)行廢氣濃度檢測(cè)。在線連續(xù)監(jiān)測(cè)的運(yùn)行應(yīng)符合國(guó)家
自動(dòng)監(jiān)測(cè)濘理辦法的要求。
(3)有機(jī)廢氣的濃度檢測(cè)儀目前使用的主要是總剄檢測(cè)儀。在大多數(shù)情況下
使用總徑檢測(cè)儀就可以檢測(cè)要求。
(4)吸附器、催化器的加熱室和反應(yīng)室內(nèi)部裝設(shè)具有自動(dòng)報(bào)鳘功能的多
點(diǎn)溫度檢測(cè)裝置，用于溫度的監(jiān)控，包括預(yù)熱溫度和反應(yīng)器進(jìn)出口氣流溫度等。
溫度傳感器應(yīng)按JJF 1049的要求標(biāo)足后使用。
在吸附和吸附劑的再生中，吸附器內(nèi)的溫度都在不斷地發(fā)生變化。特別
是對(duì)于較髙濃度氣體的吸附，由于吸附放熱，床層的溫升明顯。在吸附劑的再生
中，特別是使用熱氣流吹掃再生和髙溫水蒸氣罝換再生時(shí)，再生氣流溫度過(guò)
髙，床層中達(dá)到一泣的溫度時(shí)就會(huì)發(fā)生危險(xiǎn)，閔此一般要求對(duì)吸附器的溫度進(jìn)行
監(jiān)控。催化器的加熱室相反應(yīng)室內(nèi)部應(yīng)裝設(shè)具有R動(dòng)報(bào)蝥功能的多點(diǎn)溫度檢
測(cè)裝罝是催化器設(shè)計(jì)的某本要求。
(5)應(yīng)定期檢測(cè)過(guò)濾兩端的壓差。
7. 2控制要求
在一般情況下，廢氣治理設(shè)備與生產(chǎn)工藝相比應(yīng)該先開(kāi)后停，前后要有約10
分鐘的時(shí)間間隔，似需要巧生產(chǎn)車(chē)間進(jìn)行脅調(diào)，實(shí)現(xiàn)連鎖控制。
治理丁程應(yīng)采用總線分布控制，實(shí)現(xiàn)對(duì)的控制及進(jìn)出口溫度、壓力
和流量等的遠(yuǎn)程集中控制。
控制閥門(mén)應(yīng)選用防爆和丁藝要求的氣動(dòng)或電動(dòng)控制。防爆招施采取隔爆
型和本安型相結(jié)合。本安型防爆原理是將執(zhí)行器或控制電磁閥中的線圈經(jīng)過(guò)底功率技術(shù)處理了電壓、電流，將功率在低極限以下；隔爆原理的運(yùn)用，如在防爆廠各種電氣元件的連接采用特殊的防爆接頭等。
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彩印廠廢氣凈化工程
應(yīng)用范圍
△ 工業(yè)生產(chǎn)中產(chǎn)生有機(jī)廢氣的凈化；
△ 生物、化工行業(yè)在其各種加工中產(chǎn)生異味、惡臭廢氣的凈化；
△ PV、人造革油煙凈化，增塑劑回收；
△ 印刷油墨廢氣的凈化等。
低溫等離子體和催化氧化凈化原理：
1、等離子體的概念：氣體在高壓電場(chǎng)作用下產(chǎn)生電離，電離形成的輝光態(tài)即為等離子體，并被稱(chēng)之為的第四態(tài)。等離子體由電子、離子、基和中性粒子組成，總體上保持電中性。
2、低溫等離子體凈化原理：脈沖電暈放電和介質(zhì)阻擋放電是在氣態(tài)污染物凈化方面的兩種凈化技術(shù)。等離子體中存在很多電子、離子、活性基和激發(fā)態(tài)分子等有極高化學(xué)活性的粒子，使很多需要很高活化能的化學(xué)反應(yīng)能夠發(fā)生，使常規(guī)難以祛除的污染物得以轉(zhuǎn)化或分解。對(duì)于有機(jī)和異味惡臭廢氣在等離子體中的氧化降解機(jī)理，反應(yīng)主要有以下幾個(gè)：
（1）高能電子的作用下強(qiáng)氧化性基O、OH、HO2等的產(chǎn)生；
（2）有機(jī)物分子受到高能電子碰撞，被激發(fā)及原子鍵斷裂形成碎片基團(tuán)或原子；
（3）O、OH、HO2與激發(fā)原子有機(jī)物分子、破碎的分子基團(tuán)、基等一系列基反應(yīng)，終將有機(jī)物分子氧化降解為二氧化碳和水等無(wú)害。
3、催化氧化凈化原理：在等離子電場(chǎng)凈化外，我公司還應(yīng)用具有催化氧化能力的催化氧化劑，進(jìn)一步凈化降解有機(jī)和異味惡臭廢氣，該催化氧化劑以稀土為載體，同時(shí)浸漬一定比例的溶液，經(jīng)科學(xué)工藝合成直徑在2～4mm顆粒狀催化氧化劑。
首先，該氧化劑微孔多，吸附性強(qiáng)，具有很大的比表面積，約800～1200M2/g，因此使用周期長(zhǎng)，一般為一年更換一次。其次，氧化性強(qiáng)，顆粒狀氧化劑里外微孔都浸漬了，氧化性特別強(qiáng)。再則直徑2～4mm顆粒狀催化氧化劑裝模在V字型的箱子內(nèi)，風(fēng)阻小，氧化均勻，更換容易。
催化氧化機(jī)理實(shí)質(zhì)是氧化還原機(jī)理，通過(guò)得失電子的化學(xué)將污染物中的碳氧化為二氧化碳，將廢氣中的異味氧化還原為二氧化碳和水。
該催化氧化劑具有、、更換方便、無(wú)二次污染等優(yōu)點(diǎn)，能進(jìn)一步氧化前幾段未處理盡的有害和祛除廢氣的異味，終達(dá)到排放。
4、廢氣凈化機(jī)工藝流程圖：
凈化裝置擬設(shè)計(jì)為五段凈化：
?段為洗滌塔清洗裝置
除去瀝青煙氣中的大顆粒煙塵并使廢氣溫度。瀝青煙氣的硫化氯、等氣體與塔中藥劑中和洗滌，以保證后續(xù)處理效果。
?第二段為除水裝置
通過(guò)除水器除去廢氣中大顆粒水汽，以便后續(xù)的凈化處理。
?第三段為預(yù)處理過(guò)濾裝置
使瀝青煙氣均勻通過(guò)凈化裝置，確保煙氣凈化效率大化，同時(shí)利用機(jī)械碰撞、重力沉降的原理，使均流板上形成的大顆粒油滴集油槽內(nèi)。
?第四段為等離子體凈化裝置
低溫等離子體電暈放電技術(shù)降解有害廢氣是科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)。這種放電產(chǎn)生于兩個(gè)電極之間，并在脈沖高壓電作用下對(duì)空氣放電，將空氣，從而產(chǎn)生等離子體。其產(chǎn)生的大量活性基（OH—、O2—、H 、O3）可以直接打開(kāi)有害廢氣各種氣體分子之間的分子鍵，使有害氣體分解為簡(jiǎn)單的小分子，從而對(duì)有害氣體和異味進(jìn)行降解和氧化，終產(chǎn)物對(duì)人體和均無(wú)害。
?第五段為活性炭吸附裝置
在等離子電場(chǎng)凈化外，我公司還應(yīng)用204型活性炭顆粒，進(jìn)一步凈化吸附有機(jī)和異味惡臭廢氣。
此類(lèi)活性炭顆粒以含碳材料為載體，經(jīng)科學(xué)工藝合成直徑在2～4mm 的活性炭顆粒，可吸附等有害氣體。該顆粒微孔多，吸附性強(qiáng)，具有很大的比表面積，約800～1200m2/mg，因此使用周期長(zhǎng)，一般為六個(gè)月更換一次。其次，顆粒狀活性炭里外微孔都浸漬了，氧化性特別強(qiáng)。再則，活性炭顆粒裝模在V字型的箱子內(nèi)，風(fēng)阻小，氧化均勻，更換容易。
因此選用活性炭顆粒吸附裝置，進(jìn)一步吸附通過(guò)前期處理后氣體中殘余的異味，使終凈化效率達(dá)到90%以上。
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、第二級(jí)噴液段均采用一排Y-1型尼龍噴嘴，保爾環(huán)濾料和有機(jī)玻璃檢視孔。壓降較低，操作彈性大，且具有很好的除霧性能；◇ 操作范圍寬，運(yùn)行。4、較高的轉(zhuǎn)化速度。由于催化為不可逆的放熱反應(yīng)，所以，無(wú)論反應(yīng)進(jìn)行到什么階段，都應(yīng)在盡可能高的溫度下進(jìn)行，以較高的轉(zhuǎn)化速度。但操作溫度往往受某些條件的，如催化劑的耐熱溫度、高溫材料的，熱能的供應(yīng)，以及是否伴有副反應(yīng)等。因而實(shí)際生產(chǎn)中應(yīng)根據(jù)實(shí)際情況恰當(dāng)?shù)剡x擇。
【標(biāo)題有機(jī)廢氣處理塔
工作原理：：蓄熱式催化治理技術(shù)是典型的氣-固相反應(yīng)，其實(shí)質(zhì)是活性氧參與的深度氧化作用。在催化氧化中，催化劑表面的吸附作用使反應(yīng)物分子富集于催化劑表面，催化劑活化能的作用加快了氧化反應(yīng)的進(jìn)行，了氧化反應(yīng)的速率。在特定催化劑的作用下，有機(jī)物在較低的起燃溫度下發(fā)生無(wú)焰氧化，氧化分解為二氧化碳和水，并放出大量熱能，產(chǎn)生的熱量?jī)?chǔ)存在蓄熱陶瓷。將儲(chǔ)存的熱量和廢氣源冷氣流進(jìn)行冷熱交換，置換熱能，廢氣源的溫度，當(dāng)換熱后達(dá)到工藝溫度時(shí)可關(guān)閉電加熱，大大的能耗。廢氣濃度達(dá)到一定值時(shí)，氧化反應(yīng)后產(chǎn)生的熱量又儲(chǔ)存在畜熱，可以保證設(shè)備在無(wú)運(yùn)行功率的狀態(tài)下正常運(yùn)轉(zhuǎn)，是本設(shè)備中節(jié)能的核心裝置。裝置實(shí)用范圍有機(jī)廢氣的排放情況：氣體量、排放是否連續(xù)、排放溫度、排放壓力、排放組分。 從理論上講，只要半導(dǎo)體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導(dǎo)體就有可能用作光催化劑。常見(jiàn)的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對(duì)特定反應(yīng)有突出優(yōu)點(diǎn)，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導(dǎo)體帶隙能較小，跟太陽(yáng)光譜中的近紫外光段有的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對(duì)而言，Ti02的綜合性能，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。常見(jiàn)的產(chǎn)生等離子體的是氣體放電，所謂氣體放電是指通過(guò)某種機(jī)制使一電子從氣體原子或分子中電離出來(lái)，形成的氣體媒質(zhì)稱(chēng)為電離氣體，如果電離氣由外電場(chǎng)產(chǎn)生并形成傳導(dǎo)電流，這種現(xiàn)象稱(chēng)為氣體放電。根據(jù)放電產(chǎn)生的機(jī)理、氣體的壓j源性質(zhì)以及電極的幾何形狀、氣體放電等離子體主要分為以下幾種形式：①輝光放電；③介質(zhì)阻擋放電；④射頻放電；⑤微波放電。無(wú)論哪一種形式產(chǎn)生的等離子體，都需要高壓放電。容易打火產(chǎn)生危險(xiǎn)。由于對(duì)諸如氣態(tài)污染物的治理，一般要求在常壓下進(jìn)行。廢氣處理設(shè)備低溫等離子體：低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的著火電壓時(shí)，氣體分子被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和基在內(nèi)的混。放電中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱(chēng)為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。低溫等離子體空氣凈化設(shè)備能夠顯著治理的污染有：VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵，也可用于。低溫等離子體技術(shù)是一種全新的凈化，不需要任何添加劑、不產(chǎn)生廢水、廢渣，不會(huì)二次污染。
