江陰馬ZT200+亞銀標(biāo)簽打印機(jī)我公司專業(yè)從事條碼行業(yè)多年，銷售條碼機(jī)，提供標(biāo)簽碳帶耗材，下列只是其中一種型號(hào)參數(shù)，如需了解更多，請(qǐng)致電：0512-68367712，18912605163，劉生
蘇州斯康配套有的耗材加工廠，同時(shí)為廣大耗材用戶提供高性價(jià)比的產(chǎn)品，斯康面向企業(yè)，機(jī)構(gòu)和社會(huì)大眾，提供、周到的現(xiàn)代智能信息條碼服與售后服務(wù)。
馬ZebraZT420條碼標(biāo)簽打印機(jī)參數(shù)
分辨率：203 dpi/每毫米8個(gè)點(diǎn)；300 dpi/每毫米12個(gè)點(diǎn)（可選）
內(nèi)存：256 MB RAM內(nèi)存，512 MB閃存
大打印寬度：6.6英寸/168毫米
大打印速度：12 ips/每秒305毫米
介質(zhì)傳感器：雙介質(zhì)傳感器-傳送式和反射式
介質(zhì)特性
介質(zhì)卷筒寬度（標(biāo)簽和底紙）：2.00英寸（51毫米）至7.0英寸（178毫米）撕/切紙器；2.00英寸（5.1毫米）至6.75英寸 （171毫米）剝離/回卷非連續(xù)標(biāo)簽大長(zhǎng)度：39英寸/991毫米
打印長(zhǎng)度：203 dpi：102英寸/2590毫米
300 dpi：45英寸/1143毫米
介質(zhì)卷大尺寸：卷芯外徑8.0英寸/203毫米，內(nèi)徑3英寸/76毫米
介質(zhì)厚度：0.0023英寸/0.058毫米至0.010英寸/0.25毫米
介質(zhì)類型：連續(xù)紙、模切紙、有凹口的紙、黑標(biāo)紙
碳帶特性
外徑：450米；卷芯外徑3.2英寸/81.3毫米，內(nèi)徑1.0英寸/25.4毫米
長(zhǎng)度：1476′/450米
寬度：2.00英寸/51毫米至4.33英寸/110毫米
碳帶設(shè)置：碳帶墨面向外卷繞；選配的碳帶卷軸可用于碳帶墨面向內(nèi)卷繞。
江陰馬ZT200+亞銀標(biāo)簽打印機(jī)
條碼/識(shí)別碼制
一維碼：Code 11、Code 39、Code 93、帶有子集A/B/C的Code 128和UCC Case Codes、IT-128、UPC-A、UPC-E、EAN-8、EAN-13、UPC和EAN 2位或5位數(shù)字?jǐn)U展、Plessey、Postnet、Standard 2-of-5、Industrial 2-of-5、Interleed 2-of-5、Logmars、MSI、Codabar和Planet Code
二維碼：Codablock、PDF417、Code 49、DataMatrix、MaxiCode、QR Code、TLC 39、MicroPDF、RSS-14（和復(fù)合材料）、Aztec
選項(xiàng)和附件
通信
并行（雙向接口）
無線：ZebraNet® Printer Server –通過支持Webview和Alert功能的內(nèi)部集成選項(xiàng)支持802.11 a/b/g/n網(wǎng)絡(luò)
介質(zhì)處理
回卷器：將一整卷打印過的標(biāo)簽回卷到3英寸的卷芯上，或者剝離并回卷底紙（僅工廠安裝）
剝離器-前置式被動(dòng)剝離器選件
剝離器-底紙回卷選件–額外的整卷底紙回卷軸適合打印機(jī)底座
切紙器： 前置式切紙器和托盤，適合1英寸卷芯內(nèi)徑的介質(zhì)供應(yīng)吊架
用于墨面向內(nèi)卷繞的碳帶供應(yīng)軸
RFID
支持與UHF EPC Gen 2 V1.2/ ISO 18000-6C兼容的標(biāo)簽
打印和編碼的標(biāo)簽小間距為0.6英寸/16毫米
自適應(yīng)編碼技術(shù)可簡(jiǎn)化RFID設(shè)置并回避復(fù)雜的RFID放置準(zhǔn)則
鍵盤顯示器
支持KDU Plus?和ZKDU -為應(yīng)用程序輸入可變數(shù)據(jù)和檢索存儲(chǔ)的表格
江陰馬ZT200+亞銀標(biāo)簽打印機(jī)桌面型條碼機(jī) 《指導(dǎo)意見》的總體目標(biāo)是到2020年，自主創(chuàng)新能力大幅，核心關(guān)鍵技術(shù)實(shí)現(xiàn)突破，綠色低碳發(fā)展格局基本形成，創(chuàng)新人才取得成效，建成特色的創(chuàng)新型煤炭行業(yè)科技體系，支撐引領(lǐng)產(chǎn)業(yè)升級(jí)發(fā)展。同時(shí)針對(duì)東部煤炭資源開采與城鎮(zhèn)建設(shè)協(xié)調(diào)發(fā)展，重點(diǎn)研發(fā)充填開采沉陷控制技術(shù)，低成本充填材料與充填開采配套裝備等。